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发明名称 E-BEAM/MICROWAVE GAS JET PECVD METHOD AND APPARATUS FOR DEPOSITING AND/OR SURFACE MODIFICATION OF THIN FILM MATERIALS
摘要
申请公布号 KR20020086567(A) 申请公布日期 2002.11.18
申请号 KR1020027011015 申请日期 2002.08.22
申请人 发明人
分类号 H01L21/205 主分类号 H01L21/205
代理机构 代理人
主权项
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