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1.一种制备单一形式之下式化合物之方法,其包括 以下步骤: a)经由使下式化合物: 其中R1系选自(C1-C2)卤烷基与(C1-C5)烷基;R2系选自(C1 -C5)烷基与(C1-C2)卤烷基;其条件是R1与R2中至少一个 为(C1-C2)卤烷基;n为一至五,各R为独立选自氯基、 溴基、碘基、卤基(C1-C5)烷基、卤基(C1-C5)烷氧基 、硝基、氰基、卤甲硫基、卤乙硫基、(C1-C2)烷基 亚磺醯基、卤基(C1-C2)烷基亚磺醯基、(C1-C2)烷基 磺醯基及卤基(C1-C2)烷基磺醯基之拉电子基;且其 中该化合物系以超过一种形式存在; 溶解在溶剂中以形成硷性溶液,其方式是使该化合 物与一或多当量之有机或无机硷接触,该硷将从该 化合物撷取至少一个质子且其可溶于该溶剂中,以 所存在化合物之当量为基准;及 b)经由合并一种酸与该硷性溶液,使单一化合物形 式沉淀。2.根据申请专利范围第1项之方法,其包括 以下步骤: a.经由溶解下式化合物以形成硷性溶液: 其中: 各R为拉电子基,独立选自氯基、溴基、碘基、卤 基(C1-C5)烷基、卤基(C1-C5)烷氧基、硝基、氰基、 卤甲硫基、卤乙硫基、(C1-C2)烷基亚磺醯基、卤基 (C1-C2)烷基亚磺醯基、(C1-C2)烷基磺醯基及卤基(C1-C 2)烷基磺醯基; R1与R2各独立选自(C1-C5)烷基与(C1-C2)卤烷基,其条件 是R1与R2中至少一个系选自(C1-C2)卤烷基;及 n为2至4;及 b.经由合并一种酸与该硷性溶液,使单一化合物形 式沉淀。3.根据申请专利范围第2项之方法,其包括 以下步骤: a.经由溶解下式化合物以形成硷性溶液: 其中: 各R为拉电子基,独立选自氯基、溴基及卤基(C1-C5) 烷氧基; R1为甲基; R2为卤甲基;及 n为3;及 b.经由合并一种酸与该硷性溶液,使单一化合物形 式沉淀。4.根据申请专利范围第3项之方法,其中该 组合物之化合物为5-(2,6-二溴基-4-三氟甲氧基羰苯 胺基)-2-甲基-4-三氟甲基-1,3-唑。5.一种制备化 合物调配物之方法,其中该化合物系呈单一形式; 其包括以下步骤: a)经由使下式化合物: 其中R1系选自(C1-C2)卤烷基与(C1-C5)烷基;R2系选自(C1 -C5)烷基与(C1-C2)卤烷基;其条件是R1与R2中至少一个 为(C1-C2)卤烷基;n为一至五,各R为独立选择之拉电 子基;且其中该化合物系以超过一种形式存在; 溶解在溶剂中以形成硷性溶液,其方式是使该化合 物与一或多当量之硷接触,以所存在化合物之当量 为基准;及 b)于一或多种农艺学上可接受之载剂存在下,经由 合并一种酸与该硷性溶液,使单一化合物形式沉淀 。6.根据申请专利范围第5项之方法,其中该农艺学 上可接受之载剂系选自一或多种佐剂、稀释剂、 增量剂、载剂、界面活性剂、调理剂,防冻剂、消 泡剂、增稠剂、润湿剂、涂覆剂、分散剂、附着 剂、黏着剂及乳化剂。 |
