| 摘要 |
제1의 층(12)을 둘러싸는 제1의 주변 영역(44)을 지정하는 단계와; 상기 제1의 주변 영역(44)에 속하는 제2의 층(11)의 적어도 하나의 코너(17, 18)를 설정하는 단계와; 상기 코너(17, 18)를 둘러싸는 제1의 추가 영역(23)과 제2의 추가 영역으로 형성된 제2의 주변 영역을 형성하는 단계; 및 상기 제2의 주변 영역을 상기 제1의 층(12)에 부가하는 단계를 포함하는 반도체 장치 제조 중의 광근접 효과를 보정하기 위한 방법이 개시된다. 상기 방법은 광근접 효과를 보정하기 위한 시간 주기 및 데이터의 증가를 억제할 뿐만 아니라 해상도의 악화를 방지할 수 있다. |
