| 主权项 |
1.一种用于雷射切割标本的装置,该装置含有:–X-Y平台(2),系用来定义出平台表面(4);–支架(14),系用来收纳样本玻片(6),该样本玻片(6)系座落于支架(14)内,其方式是使标本(8)落在与平台表面(4)相对处;以及–收集装置(10),系含有至少一个用于收集切出标本碎片的容器(12),其特征为;–该支架(14)系配置于平台表面(4)上方且系接合于X-Y平台(2)上,其方式是使之可沿Y方向(20a)以及沿X方向(22a)进行调整;以及–开放工作空间(16),系能够将收集装置(10)引进其内且系定义在支架(14)与平台表面(4)之间。2.如申请专利范围第1项之装置,其中该X-Y平台(2)系含有静止底板(18),以及可沿X方向(22a)移动的第一可动平板和可沿Y方向(20a)移动的第二可动平板;及支架(14)以至少一个间隔元件(15)牢牢地被固定于上边的可动平板上。3.如申请专利范围第1项之装置,其中该X-Y平台(2)系含有静止底板(18),以及可沿Y方向(20a)移动的平板和可沿X方向(22a)移动的线性引导器(22);及支架(14)以至少一个间隔元件(15)牢牢地被固定于该线性引导器(22)上。4.如申请专利范围第1项之装置,其中该X-Y平台(2)系含有静止底板(18),以及可沿X方向(22a)移动的第一可动平板和可沿Y方向(20a)移动的线性引导器(22);及支架(14)以至少一个间隔元件(15)牢牢地被固定于该线性引导器(22)上。5.如申请专利范围第2至4项中任一项之装置,其中该X-Y平台(2)系含有用于X方向(22a)及Y方向(20a)之马达式驱动器。6.如申请专利范围第1项之装置,其中提供有定义出光轴(24)的显微镜(1);及其中该X-Y平台(2)含有开口(26)且系与显微镜有关的,其方式是将开口(26)配置成围绕该光轴(24)以便允许对标本(8)施行透光照明。7.如申请专利范围第1项之装置,其中收集装置(10)被接合于调整装置(46)上,以便对收集装置(10)施行相对于标本(8)的定位。8.如申请专利范围第6项之装置,其中该至少一个用于手动作业的控制元件是与调整装置(46)有关的。9.如申请专利范围第6项之装置,其中该至少一个马达(48)系与调整装置(46)有关的。10.如申请专利范围第6项之装置,其中在支架(14)与收集装置(10)之间配置有相对于光轴(24)呈静止的防污板(42)且配备围绕光轴(24)的通气孔(44),该防污板(42)会展开成平台表面(4)。11.一种用于雷射切割标本之装置的显微镜,该装置含有:–X-Y平台(2),系用来定义出平台表面(4);–支架(14),系用来收纳样本玻片(6),该样本玻片(6)系座落于支架(14)内其方式是使标本(8)落在与平台表面(4)相对处;以及–收集装置(10),系含有至少一个用于收集切出标本碎片的容器(12),其特征为:–该支架(14)系配置于平台表面(4)上方且系接合于X-Y平台(2)上,其方式是使之可沿Y方向(20a)以及沿X方向(22a)进行调整;以及–开放工作空间(16),系能够收集装置(10)引进其内且系定义在支架(14)与平台表面(4)之间。12.如申请专利范围第11项之显微镜,其中该X-Y平台(2)系含有静止底板(18),以及可沿X方向(22a)移动的第一可动平板和可沿Y方向(20a)移动的第二可动平板;并以至少一个间隔元件(15)将支架(14)牢牢地固定于上边的可动平板上。13.如申请专利范围第11项之显微镜,其中为该X-Y平台(2)系含有静止底板(18),以及可沿Y方向(20a)移动的平板和可沿X方向(22a)移动的线性引导器(22);并以至少一个间隔元件(15)将支架(14)牢牢地固定于该线性引导器(22)上。14.如申请专利范围第11项之显微镜,其中该X-Y平台(2)系含有静止底板(18),以及可沿X方向(22a)移动的第一可动平板和可沿Y方向(20a)移动的线性引导器(22);并以至少一个间隔元件(15)将支架(14)牢牢地固定于该线性引导器(22)上。15.如申请专利范围第12至14项中任一项之显微镜,其中该X-Y平台(2)系含有用于X方向(22a)及Y方向(20a)之马达式驱动器。16.如申请专利范围第11项之显微镜,其中显微镜(1)定义出光轴(24),且该X-Y平台(2)含有开口(26)且系与显微镜有关的,其方式是将开口(26)配置成围绕该光轴(24)以便允许对标本(8)施行透光照明。17.如申请专利范围第11项之显微镜,其中收集装置(10)被接合于调整装置(46)上以便对收集装置(10)施行相对于标本(8)的定位。18.如申请专利范围第16项之显微镜,其中该至少一个用于手动作业的控制元件是与调整装置(46)有关的。19.如申请专利范围第16项之显微镜,其中该至少一个马达(48)系与调整装置(46)有关的。20.如申请专利范围第16项之显微镜,其中在支架(14)与收集装置(10)之间配置有相对于光轴(24)呈静止的防污板(42)且配备围绕光轴(24)的通气孔(44),该防污板(42)会展开成平台表面(4)。图式简单说明:第1图系用以显示一种用于支持标本以便进行雷射切割之装置的透视图。第2图显示的是沿着由光轴及X方向展开之平面穿透该装置的截面图示,其中另外标示出收集容器的位置。第3图系一种利用如第2图所示之观点显示出本发明第二解释用实施例。 |
