发明名称 PLASMA PROCESSING METHOD AND APPARATUS WITH CONTROL OF PLASMA EXCITATION POWER
摘要 <p>Selon l'invention, la quantité de puissance RF fournie à un plasma dans une chambre de traitement plasma sous vide est modifiée graduellement sur une base préprogrammée en réponse à des signaux stockés dans une mémoire d'ordinateur. Cette mémoire stocke des signaux de sorte que d'autres paramètres de la chambre de traitement (pression, type de gaz et débit de gaz) restent constants pendant la modification graduelle. Les signaux stockés permettent d'obtenir la gravure de coins arrondis au lieu d'angles vifs, par exemple à une intersection d'une base et d'une paroi de tranchée.</p>
申请公布号 WO2002080214(A2) 申请公布日期 2002.10.10
申请号 US2002009562 申请日期 2002.03.29
申请人 发明人
分类号 主分类号
代理机构 代理人
主权项
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