Electromechanical resonator comprising a vibrating beam

摘要

L'invention concerne un résonateur formé selon les étapes suivantes : définir une zone active (1) de silicium monocristallin délimitée par une couche d'isolant enterré (2) ; déposer une couche de silicium-germanium (3) par un procédé d'épitaxie sélective de sorte que la couche de silicium-germanium croisse au-dessus de la zone active de silicium monocristallin ; déposer par un procédé d'épitaxie non-sélective une couche de silicium (5) et la graver selon un contour désiré ; et éliminer le silicium-germanium par une gravure sélective par rapport au silicium et à l'isolant. <IMAGE>