| 主权项 |
1.一种改良式门挡,其主要系将一舌片之一边枢接于地面,使该舌片可藉其枢接处而被掀起;另将一吸附体设置于门体适当处,使该吸附体可于开启门体时恰因吸附作用而吸附起前述之舌片。2.依申请专利范围第1项所述之改良式门挡,其中之吸附体,其用以与舌片相互吸附之邻接面,系概呈愈往外端愈向下倾之渐倾方式。3.依申请专利范围第1项所述之改良式门挡,其中之舌片,其被枢接之另端,系朝向开启门体时之吸附体移动路径。4.依申请专利范围第1项所述之改良式门挡,其中之吸附体及舌片,系可分别为磁铁及可被磁铁吸附之任意材质,或可分别为可被磁铁吸附之任意材质及磁铁者。5.依申请专利范围第1项所述之改良式门挡,其中之吸附体,其用以与舌片相互吸附之邻接面,系概呈愈往外端愈向下倾之渐倾方式,且舌片所被枢接之另端,系朝向开启门体时之吸附体移动路径。6.依申请专利范围第1.2.3.4或5项所述之改良式门挡,其中之吸附体,系可进一步将之具设于一悬体,以藉该悬体而与门体接设,且吸附体之邻接面并露出于悬体之底侧。7.依申请专利范围第6项所述之改良式门挡,其中之悬体,其两侧对具一用以将该悬体与门体两相固定之耳部;悬体并前凸一嵌设有吸附体之凸部,凸部底面并与吸附体之邻接面同为朝前渐趋下倾之方式。8.依申请专利范围第7项所述之改良式门挡,其中之耳部,其系具有可供固定元件来加以将该悬体固定于门体上之孔体。9.依申请专利范围第7项所述之改良式门挡,其中之凸部,其底面系略凸出于吸附体之邻接面。10.依申请专利范围第9项所述之改良式门挡,其中之凸部,其底面前侧所与吸附体相邻之间隔部分,系可进一步具设一沟槽,并使该沟槽后缘之凸部底面的间隔面系齐平于吸附体之邻接面。11.依申请专利范围第1.2.3.4或5项所述之改良式门挡,其中之舌片,系可进一步将之枢设于一可被设置于地面之座体,并使该座体具有可供舌片容置之凹陷槽,俾便舌片为非掀起状态时,得能容置于该凹陷槽内。12.依申请专利范围第11项所述之改良式门挡,其中之舌片,其用以被枢接之枢接部,系具设于座体凹陷槽后侧之容设空间内,并藉由一枢轴之穿过该枢接部,及藉由该枢轴两端之与该容设空间两相对侧接设,俾提供舌片以其枢接部为轴而掀动之依据。13.依申请专利范围第11项所述之改良式门挡,其中之座体,其底侧系一体下凸一表面适做为凹陷槽之内底面的底凸部;座体之凹陷槽后侧则形成一上下贯通之容设空间;底凸部底侧并再固设一后侧两端系对称后伸有上凸状衔接端之片体,使该两衔接端除其间系用以枢设舌片外并恰嵌置于前述容设空间之两端。14.依申请专利范围第13项所述之改良式门挡,其中之舌片,其用以被枢接之枢接部,系藉由一枢轴之穿过该枢接部,及藉由该枢轴两端之分别接设于两相应衔接端,俾提供舌片以其枢接部为轴而掀动之依据。15.依申请专利范围第13项所述之改良式门挡,其中之座体,其底侧所与衔接端相邻之后方处,系间隔的下凸一环体,并使环体、衔接端及片体之底缘均呈齐平状。16.依申请专利范围第11项所述之改良式门挡,其中之座体,表面形成一适可供舌片容置之凹陷槽,凹陷槽后侧则形成一上下贯通之容设空间;座体底侧之容设空间前侧系形成一嵌置槽,嵌置槽内适嵌置固定一后侧两端系对称后伸有上凸状衔接端之片体,使该两衔接端除其间系用以枢设舌片外并恰嵌置于前述容设空间之两端;座体之包含前述片体的底侧乃形成齐平状,且座体之边缘更系呈由内而外渐趋弧形下倾之样态者。17.依申请专利范围第16项所述之改良式门挡,其中之座体,其系可使其底侧以平贴于地面之方式而被固设于地面;藉由其边缘系呈由内而外渐趋弧形下倾之样态,俾达不会有遭受碰损之虞者。18.依申请专利范围第11项所述之改良式门挡,其中之座体,其用以供固定元件来将该座体与地面固设之复数孔体,系可分布于座体表面或可在座体表面与凹陷槽内底面两处被分布。19.依申请专利范围第11项所述之改良式门挡,其中之座体,其系可埋置于地面,而使该座体及未掀起之舌片均与地面切齐;或可仅将座体底侧之下凸部分埋置于地面,而未掀起之舌片则切齐于座体表面,该座体乃呈略浮凸于地面之样态者。图式简单说明:第一图 为本创作之立体分解图第二图 为本创作悬体1之倒视图第三图 为本创作悬体1之侧视图及剖视图第四图 为本创作座体2之舌片掀起后立体图暨其B-B剖视图第五图 为本创作座体2之倒视图第六图 为本创作之使用实施方式示意图(动作前)第七图 为本创作之使用实施方式示意图(动作后)第八图 为本创作依据图七之部分放大剖视图第九图 为本创作另一实施例之动作后的部份放大剖视图 |
