| 发明名称 |
CLEANING CONTACT WITH SUCCESSIVE FLUORINE AND HYDROGEN PLASMAS |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
SG91300(A1) |
申请公布日期 |
2002.09.17 |
| 申请号 |
SG20000005007 |
申请日期 |
2000.09.01 |
| 申请人 |
APPLIED MATERIALS, INC. |
发明人 |
JR-JYAN CHEN;KENNY KING-TAI NGAN;BARNEY M. COHEN;JINGANG SU |
| 分类号 |
H01L21/28;H01L21/302;H01L21/304;H01L21/306;H01L21/3065;H01L21/768;(IPC1-7):H01L21/306;H01L21/321 |
主分类号 |
H01L21/28 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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