发明名称 A PHOTOLITHOGRAPHY MASK HAVING A SUBRESOLUTION ALIGNMENT MARK WINDOW
摘要 투명 기판의 일 표면상에 배치된 가시광 불투명 필름을 구비한 사진 식각 마스크로서, 상기 필름은 회로 형상의 이미지를 정의하는 최소한 한 개의 개구부 및 연관된 웨이퍼 상에 정렬 마크를 관찰하기 위한 윈도우를 포함한다. 상기 윈도우는 상기 불투명 필름에 개구부의 배열을 구비하고, 각각의 개구부의 치수는 실질적으로 상기 회로 형상의 이미지를 정의하는 상기 개구부의 치수 이하이다. 또한, 패턴되어질 웨이퍼에 상기 사진 식각 마스크를 정렬하는 방법으로서, 상기 방법은 상기 웨이퍼 상에 상기 정렬 마크를 관찰하는 상기 마스크의 윈도우를 통하여조사하는 단계 및 상기 마스크의 윈도우 내에 상기 웨이퍼의 정렬 마크를 위치하는 단계를 구비한다.
申请公布号 KR20020072533(A) 申请公布日期 2002.09.16
申请号 KR20027003644 申请日期 2002.03.19
申请人 타이코 엘렉트로닉스 로지스틱스 아게 发明人 딜리존윌리암루크;픽큰스마리언웨인
分类号 G03F1/08;G03F9/00;H01L21/027 主分类号 G03F1/08
代理机构 代理人
主权项
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