| 摘要 |
<p>본 발명은 세정장치의 구조를 개선하여 세정액의 농도차에 의한 세정 불량상태를 미연에 막도록 한 것이다. 이를 위해, 본 발명은 반도체 소자 제조를 위한 반응막 증착 공정용 튜브 세정장치에 관한 것으로서, 웨이퍼에 산화막 또는 질화막을 증착시키기 위한 석영 재질의 튜브가 안착되는 파지부를 가지며, 상기 파지부에 안착된 튜브를 세정조로 이송시키는 로봇암과; 상기 로봇암에 상/하 이동가능하게 구비됨과 함께 상기 로봇암의 파지부에 안착된 튜브를 회전시키는 구동수단과; 상기 로봇암의 파지부 바닥면에 구비되어 상기 튜브를 회전가능하게 지지하며 상기 구동수단을 보조하는 피동부가 포함되어 이루어진 반도체용 회전 세정장치를 제공한다.</p> |
