| 发明名称 | 液体处理系统及其清洗设备 | ||
| 摘要 | 一种用在包含射线源部件的液体处理系统中的清洗设备,该清洗设备包括:至少一个与射线源部件(150)的外部滑动啮合的清洗套筒(300);一个清洗室(310),它位于该至少一个的清洗套筒内,与射线源部件(150)的外部的一部分相接触,其中充满着清洗液,清洗室包括一个通向清洗套筒外边的开口(370);一个位于开口中的压力均衡构件(355),用来提供开口和清洗套筒的外部之间的密封,该压力均衡构件可以随着经此处的压力梯度而移动;以及沿射线源部件的外部调动该至少一个的清洗套筒的驱动装置。还描述了一种含有该清洗设备的液体处理系统。 | ||
| 申请公布号 | CN1368940A | 申请公布日期 | 2002.09.11 |
| 申请号 | CN00811520.6 | 申请日期 | 2000.08.11 |
| 申请人 | 特洛伊人技术公司 | 发明人 | 冈·方;尤里·劳里辛;简·M·马尔斯哈尔克维尔德;道格拉斯·彭黑尔 |
| 分类号 | C02F1/32;B08B9/02;A61L2/10 | 主分类号 | C02F1/32 |
| 代理机构 | 中原信达知识产权代理有限责任公司 | 代理人 | 朱登河;顾红霞 |
| 主权项 | 1.一种用在包含射线源部件的液体处理系统中的清洗设备，该清洗设备包括：至少一个与射线源部件的外部滑动啮合的清洗套筒；一个清洗室，它位于该至少一个的清洗套筒内，与射线源部件的外部的一部分相接触，其中充满着清洗液，清洗室包括一个通向清洗套筒外边的开口；一个位于开口中的压力均衡构件，用来提供开口和清洗套筒的外部之间的密封，该压力均衡构件可以随着经此处的压力梯度而移动；以及沿射线源部件的外部调动该至少一个的清洗套筒的驱动装置。 | ||
| 地址 | 加拿大安大略 | ||