| 发明名称 |
BORON DIFFUSION BARRIER LAYER AND ITS USE IN SEMICONDUCTOR DEVICE FABRICATION |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
EP1238416(A1) |
申请公布日期 |
2002.09.11 |
| 申请号 |
EP20010964167 |
申请日期 |
2001.08.17 |
| 申请人 |
MICRO C TECHNOLOGIES, INC. |
发明人 |
MAHAWILI, PHD, IMAD |
| 分类号 |
H01L21/283;H01L21/28;H01L21/314;H01L21/318;H01L29/51;H01L29/78;(IPC1-7):H01L21/28 |
主分类号 |
H01L21/283 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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