| 发明名称 | 用等离子体处理工件的装置 | ||
| 摘要 | 一种大工件等离子体加工器，包括具有多个单独支撑的介电窗口的真空腔体，用于把腔体外产生的射频场耦合到腔体内，以激励出等离子体。感应取得磁场的平面线圈具有多个相同电长度的部分，每部分包括与另一部分元件并联的元件。 | ||
| 申请公布号 | CN1090807C | 申请公布日期 | 2002.09.11 |
| 申请号 | CN95197834.9 | 申请日期 | 1995.12.05 |
| 申请人 | 拉姆研究有限公司 | 发明人 | 迈克尔·巴恩斯;尼尔·贝嘉明;约翰·霍兰;理查德·比尔;罗伯特·韦特罗普 |
| 分类号 | H01J37/32 | 主分类号 | H01J37/32 |
| 代理机构 | 上海专利商标事务所 | 代理人 | 陈亮 |
| 主权项 | 1.一种用等离子体处理工件(24)的装置，该装置包括其内要安装工件(24)的真空腔体(10)；把能够转换成等离子体的气体引入到腔体(10)以处理工件(24)的装置(22)；以及把气体转换成等离子体的装置，该装置包括在腔体(10)外侧产生射频场的射频源，腔体外表面包括多个各自支撑的介电窗口(19)，其位置能使射频场耦合到气体上，使得通过窗口耦合的场激励出等离子体，其特征在于，多个窗口(19)中的每个窗口是一个射频耦合窗口的子窗口，且分布在同一平面上，每个子窗口(19)的厚度小于与该射频耦合窗口组合面积相同的单个窗口的厚度，子窗口(19)的各自支撑以及子窗口(19)的厚度使窗口(19)可以承受腔体(10)内外的压力差。 | ||
| 地址 | 美国加利福尼亚州 | ||