发明名称 磨光组成物
摘要 一种磨光记忆硬碟之磨光组成物,其包括水与至少一种磨蚀剂,而且其另外包含一种溶解于该组成物中之铁螯合剂错合物,其中磨蚀剂选自包括二氧化矽、氧化铝、氧化铈、氧化锆、氧化钛、氮化矽及一氧化锰,该铁螫合剂错合物具有含氮化合物作为配位子,整体组成物之pH值自6至10。
申请公布号 TW500783 申请公布日期 2002.09.01
申请号 TW088114651 申请日期 1999.08.26
申请人 富士见股份有限公司 发明人 大桥圭吾;玉一志;横道典孝
分类号 C09G1/02;C09K3/14 主分类号 C09G1/02
代理机构 代理人 林志刚 台北巿南京东路二段一二五号七楼
主权项 1.一种磨光记忆硬碟用之磨光组成物,其包括水与 至少一种选自包括二氧化矽、氧化铝、氧化铈、 氧化锆、氧化钛、氮化矽与二氧化镁之磨蚀剂,而 且其另外包含一种溶解于该组成物中之铁螯合剂 错合物,该铁螯合剂错合物具有含氮化合物作为配 位基,而且整体组成物之pH値自6至10, 其中该铁螯合剂错合物系具有至少一个配位基配 位于铁离子上者,该配位基系选自包括伸乙基二胺 四醋酸、二伸乙基三胺五醋酸、伸丙基二胺四醋 酸、羟基乙基伸乙基二胺三醋酸、乙二醇醚二胺 四醋酸、氮川二醋酸、羟基乙基亚胺二醋酸、二 羟基乙基甘胺酸与三伸乙基四胺六醋酸, 其中以该磨光组成物总重为基准,该磨蚀剂之含量 自0.1至50重量%,该铁螯合剂错合物之含量自0.01至40 重量%。2.如申请专利范围第1项之磨光组成物,其 中该铁螯合剂错合物之形式系至少一种化合物系 选自包括伸乙基二胺四醋酸铁二胺、伸乙基二胺 四醋酸铁一胺二水合物、伸乙基二胺四醋酸铁一 钠、二伸乙基三胺五醋酸铁二铵、伸丙基二胺四 醋酸铁一钠三水合物、乙二醇醚二胺四醋酸铁一 钠三水合物、氮川三醋酸铁一钠水合物、羟基乙 基亚胺二醋酸铁一钠水合物、二羟基乙基甘胺酸 、羟基乙基伸乙基二胺三醋酸铁一钠水合物与三 伸乙基四胺六醋酸铁铵。
地址 日本