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<p>Die Erfindung betrifft eine Anordnung zur kontinuierlichen Belichtung eines beschichteten Substrates (4) in darin vorbestimmten Bereichen mit wenigstens einer Belichtungseinheit (1), die wenigstens eine Schattenmaske (2) und eine dieser wenigstens einen Schattenmaske (2) zugeordnete Belichtungsquelle (3) umfasst, wobei das Substrat (4) kontinuierlich relativ zur Belichtungseinheit (1) führbar angeordnet ist.</p> |
