| 摘要 |
<p>L"invention porte sur un système et sur un procédé de classification de particules contaminantes sur une surface de plaquette. Cette invention permet de récupérer des premier et second ensembles de données avec les emplacements et dimensions des particules contaminantes sur une surface d"une plaquette de semi-conducteur à un premier moment et à un second moment. Un processus intermédiaire peut modifier le paysage des particules contaminantes sur la surface de la tranche, ainsi que leur quantité et leur emplacement entre les premier et second moments. Pour comprendre cette modification, on compare les emplacements et dimensions des particules contaminantes et on classe ensuite les particules appartenant à l"une des trois catégories : fixes, éliminées et ajoutées. Les résultats du processus sont ensuite réunis sous différents formes. Les comparaisons et classifications des données permettent aux utilisateurs de comprendre la source et l"impact des particules contaminantes de façon à pouvoir modifier le processus intermédiaire, si besoin, et réduire l"impact des particules contaminantes.</p> |
