| 摘要 |
<p>본 발명은 습식방식에 의한 중화합성공정에서의 여과 효율 향상방법에 관한 것이며, 그 목적하는 바는 습식공정을 통해 NiO, CuO 등의 산화물 전자재료 합성시, pH를 조절하여 입자의 비표면적 증가를 억제함으로서, 여과공정에서 여과효율을 향상시킬 수 있는 방법을 제공하고자 하는데 있다. 상기 목적을 달성하기 위한 본 발명은 출발원료를 적정비율로 배합하여 습식방식으로 중화합성한 다음, 합성에 의해 얻어진 산화물이나 수산화물 슬러지를 분리하고, 분리된 산화물이나 수산화물 슬러지를 수세 및 여과를 반복하여 불순물을 제거하여 산화물이나 수산화물을 합성하는 방법에 있어서, 상기 수세 및 여과를 반복하는 과정에서의 상기 산화물이나 수산화물 슬러지의 pH를 10-11의 범위로 유지하는 것을 특징으로 하는 습식방식에 의한 중화합성공정에서의 여과효율 향상방법에 관한 것을 그 요지로 한다.</p> |
