一种低温烧结氮化铝基复相材料及其制备方法

摘要

一种低温烧结AlN基复相材料及其制备方法,涉及电子封装材料及其制造领域。其特征在于复相材料由AlN50－80,硼硅酸铅玻璃50－15,余量为LiF(wt%)组成,硼硅酸铅玻璃的组成(wt%)SiO₂:50－75,B₂O₃:3－17,PbO:15－29,含量为碱金属或碱土金属的氧化物。本发明采用热压烧结工艺,分三阶段升温、加压。最终保温阶段950或1000℃下,压力在18～25MPa范围,保温2～8小时。热导率最高可达11W/m·K,比文献报道的高50%。本发明具有烧结温度低、密度低、导热性能良好和成本低廉等优点,适用于低温共烧基板材料和微电子封装材料。

主权项

1.一种低温烧结氮化铝基复相材料，其特征在于：(1)由AlN、硼硅酸铅玻璃和LiF组成，具体组成(wt％)为AlN 50-80，硼硅酸铅玻璃50-15，含量为LiF (2)硼硅酸铅玻璃的主要成分(wt％)为：SiO2：50-75，B2O3：3-17，PbO：15-29余量为碱金属或碱土金属的氧化物。