| 摘要 |
<p>Die Erfindung bezieht sich auf eine Zuführvorrichtung zum Zuführen eines Gasstromes, insbesondere eines Precursorgasstromes oder Trägergasstromes für eine CVD-Beschichtungsanlage, die aufweist jeweils mindestens einen Gaseinlass, mehrere Gasauslässe, und eine Verteilereinrichtung zum Verteilen des dem Gaseinlass zugeführten Gasstromes auf die Gasauslässe. DOLLAR A Um an den Gasauslässen gleichmäßige Strömungs- und Temperaturbedingungen zu erreichen, wird vorgeschlagen, dass der Gaseinlass (4) und die Gasauslässe (13) über Kanäle (5, 7, 9, 11) verbunden sind, die sich in Verzweigungen (6, 8, 10, 12) symmetrisch in nachgeordnete Kanäle (7, 9, 11, 13) aufteilen oder in einem der Gasauslässe enden, derartig, dass jede Verbindung von dem Gaseinlass zu einem der Gasauslässe jeweils gleiche Kanäle und Verzweigungen aufweist.</p> |
