| 主权项 |
1.一种曝光方法,供使一载有形成有图案之掩模之掩模台,及一载有基板之矩形基板座,在第一方向转移,藉以使一矩形基板曝光至掩模之图案,该方法包含下列步骤:将较长边为长于基板座之较短边之基板在基板座置放为致使基板之较长边大致沿基板座之较短边设置;在第一方向转移掩模台及基板座,藉以使基板之第一区域曝光至掩模之图案;在一大致垂直于第一方向之第二方向转移基板座;以及在第一方向转移掩模台及基板座,藉以使一沿第二方向靠近第一区域之基板之第二区域曝光。2.如申请专利范围第1项之曝光方法,其中基板之较短边为680毫米或更长,而基板之较长边为880毫米或更长。3.如申请专利范围第1项之曝光方法,其中第一方向为平行于基板座之较长边。4.如申请专利范围第1项之曝光方法,其中第一及第二区域定位在基板与基板座接触之部位。5.如申请专利范围第1项之曝光方法,另包含一形成供基板在基板与基板座接触部位对准使用之对准记号之步骤。图式简单说明:图1为示意图,示一根据本发明实施例之扫描式曝光装置之结构;图2为平面图,示一装载在一基板台15之基板14;图3为平面图,示一掩模10;图4为示意平面图,示一由基板座15a所支承之基板14;图5为示意平面图,示使用一有二347.2毫米x279.7毫米电路图案30a形成在其上之掩模30,在基板14印刷六17-寸SXGA LCD板之一种方式;图6为流程图,示扫描曝光步骤一种例证性顺序;图7为示意图,示基板座15a之大小;图8为示意图,示一装载在基板座15a之基板200;以及图9为示意图,例示使用一有二279.7毫米x347.2毫米电路图案101形成在其上之掩模100,在一基板印刷六17-寸SXGA LCD板之一种方式。 |
