| 主权项 |
1.一种即时侦测半导体制程中反应室故障的方法,该方法至少包括下列步骤:传送晶圆至制程反应室中;设定制程条件;执行该制程条件所设定之半导体制程;量测试制程反应室之阻抗値,其中该制程反应室之阻抗値是以一电流、电压检测器进行量测,以得到一阻抗量测値;比较该阻抗量测値与预先建立之阻抗标准値,以得到一比较値;以及当该比较値超过一预设値时,停止该半导体制程。2.如申请专利范围第1项之方法,更包含当该比较値介于该预设値内时,继续该半导体制程。3.如申请专利范围第2项之方法,其中更包含根据比较値调整制程条件,以使该阻抗量测値相等于正常阻抗値。4.如申请专利范围第1项之方法,其中上述传送该晶圆至该制程反应室中之步骤是使用机械手臂进行。5.如申请专利范围第1项之方法,其中上述之半导体制程为电浆制程。6.如申请专利范围第1项之方法,其中上述之制程反应室为电浆反应室。7.如申请专利范围第1项之方法,其中上述之预先建立阻抗标准値更包含下列步骤:使用机械手臂传送晶圆至该制程反应室中;设定制程条件;执行该制程条件所设定之制程;以及于不同时间点,量测试制程反应室之阻抗値,其中该制程反应室之限抗値是以一电流-电压检测器进行量测,以取得阻抗标准値。8.如申请专利范围第7项之方法,其中上述之制程条件与欲进行比较之半导体制程,其所实施之制程条件相同。9.如申请专利范围第7项之方法,其中上述之阻抗标准値建立方法系排除所有反应室不正常状况后再加以建立。10.一种即时侦测制程中电浆反应室故障的方法,该方法至包括下列步骤:传送晶圆至电浆反应室中;设定制程条件;执行该制程条件所设定之电浆制程;量测试电浆反应室目前之阻抗値,其中该电浆反应室之阻抗値是以一电流-电压检测器进行量测,以得到一阻抗量测値;比较该阻抗量测値与预先建立之阻抗标准値,以得到一比较値;以及当该比较値超过一预设値时,停止该电浆制程。11.如申请专利范围第10项之方法,更包含当该比较値介于该预设値内时,继续该电浆制程。12.如申请专利范围第11项之方法,更包含根据比较値调整制程条件,以使该阻抗量测値相等于正常阻抗値。13.如申请专利范围第10项之方法,其中上述之预先建立阻抗标准値更包含下列步骤:使用机械手臂传送晶圆至该电浆反应室中;设定制程条件;执行该制程条件所设定之制程;以及于不同时间点,量测试电浆反应室之阻抗値,其中该电浆反应室之阻抗値是以一电流-电压检测器进行量测,以取得阻抗标准値。14.如申请专利范围第13项之方法,其中上述之制程条件与欲进行比较之电浆制程,其时所实施之制程条件相同。15.如申请专利范围第13项之方法,其中上述之阻抗标准値建立方法系排除所有电浆反应室不正常状况后再加以建立。16.一种即时侦测半导体制程中反应室故障的装置,该装置至少包含:一制程反应室;一电流-电压检测器,耦合于该制程反应室用以量测该制程反应室之电流、电压値,并具以计算出该制程反应室之阻抗値;以及一系统控以器,耦合于该电流、电压检测器,用以将由电流-电压检测器所量测之该制程反应室阻抗値与与预先建立之制程反应室阻抗标准値进行比较,并根据所得之比较値,据以调整制程条件,其中该预先建立之制程反应室阻抗标准系排除所有反应室不正常状况后,以该电流-电压检测器量测试反应室所得之阻抗値。17.如申请专利范围第16项之装置,其中上述之半导体制程为电浆制程。18.如申请专利范围第16项之装置,其中上述之制程反应室为电浆反应室。19.一种即时侦测电浆反应室故障的装置,该装置至少包含:一电浆反应室,该电浆反应室具上、下电极板;一电流-电压检测器,耦合于该电浆反应室用以量测,该电浆反应室之电流、电压値,并具以计算出该电浆反应室之阻抗値;以及一系统控制器,耦合于该电流、电压检测器,用以将由电流-电压检测器所量测之该电浆反应室阻抗値与与预先建立之电浆反应室阻抗标准値进行比较,并根据所得之比较値,据以调整制程条件,其中该预先建立之电浆反应室阻抗标准系排除所有电浆反应室不正常状况后,以该电流-电压检测器量测试电浆反应室所得之阻抗値。20.如申请专利范围第19项之装置,其中上述之电流、电压检测器,是与该电浆反应室中之下层电极板耦合。21.如申请专利范围第19项之装置,其中上述之量测该电浆反应室之电流、电压値是指量测试电浆反应室下层电极板之电流电压値。22.如申请专利范围第19项之装置,其中上述之电流、电压检测器,是与该电浆反应室中之上层电极板耦合。23.如申请专利范围第19项之装置,其中上述之量测该电浆反应室之电流、电压値是指量测试电浆反应室上层电极板之电流电压値。图式简单说明:第一图为传统电浆制程机台之概要装置描绘图。第二图为根据本发明之电浆制程机台之概要装置描绘图。第三图为本发明所提供建立标准値方法之流程图。第四图为根据本发明之方法即时制程条作与标准値进行比较之流程图。 |
