发明名称 Ausrichtgerät zum Ausbilden eines Musters auf einem Halbleitersubstrat durch Belichten und Verfahren zur Herstellung einer Halbleitervorrichtung mit einem Ausrichtgerät
摘要 Die Erfindung betrifft das Gebiet der Systeme zur Herstellung von Halbleitervorrichtungen und insbesondere ein Ausrichtgerät zum Übertragen eines sehr kleinen Musters wie etwa des Musters einer integrierten Halbleiterschaltung. Ein Beleuchtungsoptiksystem (1) wird mit einer gegebenen Geschwindigkeit um eine Drehwelle (51) gedreht und strahlt Belichtungslicht auf eine Zwischenmaske (2) aus. Nachdem das Licht durch die Zwischenmaske (2) geleitet wurde, wird es durch ein Projektionsoptiksystem (3), das in der Weise um die Drehwelle (51) gedreht wird, daß eine relative Lagebeziehung zwischen dem Beleuchtungsoptiksystem (1) und dem Projektionsoptiksystem (3) erhalten bleibt, auf ein Halbleitersubstrat (4) projiziert.
申请公布号 DE10135068(A1) 申请公布日期 2002.08.01
申请号 DE20011035068 申请日期 2001.07.18
申请人 MITSUBISHI DENKI K.K., TOKIO/TOKYO 发明人 NAKAO, SHUJI;ISHIBA, TERUAKI
分类号 G03F7/20;H01L21/027;H01L21/68;(IPC1-7):G03F7/20 主分类号 G03F7/20
代理机构 代理人
主权项
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