| 主权项 |
1.一种阴极射线管,主要具备有; 具有面板及漏斗形状管之真空波封,而上述面板实 质上具有矩形状之有效区域; 被形成于上述面板内面之萤光屏;及 配设于上述漏斗形状管之颈内之用以朝向上述萤 光屏射出电子束用之电子枪,其特征为: 上述面板之有效区域被形成为,具有朝水平方向延 伸之长轴及朝垂直方向延伸之短轴,而上述有效区 域外面形成沿着上述长轴方向之曲率半径概略为 无限大,沿着上述短轴方向之曲率半径为遍及外面 整体成相同之图通形状之曲面形状。2.如申请专 利范围第1项所述之阴极射线管,其中,上述有效区 域外面乃具有上述短轴方向之曲率半径以高次方 之多项式所表示之曲面形状。3.如申请专利范围 第1项所述之阴极射线管,其中,上述有效区域之上 述长轴方向之尺寸和短轴方向之尺寸之比为16:9。 4.一种阴极射线管,主要具备有: 具有面板及漏斗形状管之真空波封,而上述面板实 质上具有矩形状之有效区域; 被形成于上述面板内面之萤光屏;及 配设于上述漏斗形状管之颈内之用以朝向上述萤 光屏射出电子束用之电子枪,其特征为: 上述面板之有效区域被形成为,具有朝水平方向延 伸之长轴及朝垂直方向延伸之短轴,而上述有效区 域外面形成沿着上述长轴方向之曲率半径概略为 无限大,沿着上述短轴方向之曲率半径则成为在上 述短轴上和上述短边附近部分具有相异之値的曲 面形状。5.如申请专利范围第4项所述之阴极射线 管,其中,上述有效区域之上述长轴方向之尺寸和 短轴方向之尺寸之比为16:9。6.一种阴极射线管,主 要具备有: 具有面板及漏斗形状管之真空波封,而上述面板实 质上具有矩形状之有效区域; 被形成于上述面板内面之萤光屏;及 配设于上述漏斗形状管之颈内之用以朝向上述萤 光屏射出电子束用之电子枪,其特征为: 上述面板之有效区域被形成为,具有朝水平方向延 伸之长轴及朝垂直方向延伸之短轴,而上述有效区 域外面实质上被形成为平坦,内面则被形成为沿着 上述长轴方向之曲率半径概略为无限大,沿着上述 短轴方向之曲率半径为遍及内面整体成为一定之 値的圆筒形状之曲面形状。7.如申请专利范围第6 项所述之阴极射线管,其中,上述有效区域之内面 乃具有上述短轴方向之曲率半径以高次方之多项 式所表示之曲面形状。8.如申请专利范围第6项所 述之阴极射线管,其中,上述有效区域之上述长轴 方向之尺寸和短轴方向之尺寸之比为16:9。9.一种 阴极射线管,主要具备有: 具有面板及漏斗形状管之真空波封,而上述面板实 质上具有矩形状之有效区域; 被形成于上述面板内面之萤光屏;及 配设于上述漏斗形状管之颈内之用以朝向上述萤 光屏射出电子束用之电子枪,其特征为: 上述面板之有效区域被形成为,具有朝水平方向延 伸之长轴及朝垂直方向延伸之短轴, 上述有效区域外面形成沿着上述长轴方向之曲率 半径概略为无限大,沿着上述短轴方向之曲率半径 为某一値之曲面形状, 而上述有效区域内面则形成沿着上述长轴方向之 曲率半径概略为无限大,沿着上述短轴方向之曲率 半径为遍及外面整体成一定値的圆筒形状之曲面 形状。10.如申请专利范围第9项所述之阴极射线管 ,其中,上述有效区域外面乃具有上述短轴方向之 曲率半径以高次方之多项式所表示之曲面形状。 11.如申请专利范围第9项所述之阴极射线管,其中, 上述有效区域之上述长轴方向之尺寸和短轴方向 之尺寸之比为16:9。12.一种阴极射线管,主要具备 有: 具有面板及漏斗形状管之真空波封,而上述面板实 质上具有矩形状之有效区域; 被形成于上述面板内面之萤光屏;及 配设于上述漏斗形状管之颈内之用以朝向上述萤 光屏射出电子束用之电子枪,其特征为: 上述面板之有效区域被形成为,具有朝水平方向延 伸之长轴及朝垂直方向延伸之短轴,而上述有效区 域外面实质上被形成为平坦,内面则被形成为沿着 上述长轴方向之曲率半径具有某一値,沿着上述短 轴方向之曲率半径则成为在上述短轴上和上述短 边附近部分具有相异之値的曲面形状。13.一种阴 极射线管,主要具备有: 具有面板及漏斗形状管之真空波封,而上述面板实 质上具有矩形状之有效区域; 被形成于上述面板内面之萤光屏; 在上述真空波封内配设成相对向于上述萤光屏之 阴蔽罩,而此阴蔽罩具备有,具有成相对向于上述 萤光屏之概略为矩形状之有效面及形成于上述有 效面之多数电子束通孔的罩本体,和支撑着上述罩 本体周边缘部之概略为矩形状之框架;及 配设于上述漏斗形状管之颈内之用以朝向上述萤 光屏射出电子束用之电子枪,其特征为: 上述罩本体之有效而被形成为,具有朝水平方向延 伸之长轴及朝垂直方向延伸之短轴,并沿着上述长 轴方向之曲率半径概略成无限大,而沿着上述短轴 方向之曲率半径成遍及有效面整体概略为一定的 圆筒形状之曲面形状。14.如申请专利范围第13项 所述之阴极射线管,其中,上述罩本体系形成以施 加有要缩小沿着上述短轴方向之曲率半径的方向 之应力状态下被固定于上述框架。15.如申请专利 范围第13项所述之阴极射线管,其中,上述多数电子 束通孔,个别具有朝上述罩本体之短轴方向展延之 细长形状,且上述电子束通孔以朝罩本体之短轴方 向藉桥部排列成一列来配置有复数个,并使上述电 子束通孔之列以朝上述罩本体之长轴方向并列成 复数列来配设着。16.如申请专利范围第13项所述 之阴极射线管,其中,上述罩本体之有效而被形成 为,长轴方向之尺寸和短轴方向之尺寸之比为16:9 。17.一种阴极射线管,主要具备有: 具有面板及漏斗形状管之真空波封,而上述面板实 质上具有矩形状之有效区域; 被形成于上述面板内面之萤光屏; 在上述真空波封内配设成相对向于上述萤光屏之 阴蔽罩,而此阴蔽罩具备有,具有成相对向于上述 萤光屏之概略为矩形状之有效面及形成于上述有 效面之多数电子束通孔的罩本体,和支撑着上述罩 本体周边缘部之概略为矩形状之框架;及 配设于上述漏斗形状管之颈内之用以朝向上述萤 光屏射出电子束用之电子枪,其特征为: 上述罩本体之有效面被形成为,具有朝水平方向延 伸之长轴及朝垂直方向延伸之短轴,并沿着上述长 轴方向之曲率半径概略成无限大,而沿着上述短轴 方向之曲率半径成以高次方之多项式所表示之曲 面。18.如申请专利范围第17项所述之阴极射线管, 其中,上述罩本体系形成以施加有要缩小沿着上述 短轴方向之曲率半径的方向之应力状态下被固定 于上述框架。19.如申请专利范围第17项所述之阴 极射线管,其中,上述多数电子束通孔,个别具有朝 上述罩本体之短轴方向展延之细长形状,且上述电 子束通孔以朝罩本体之短轴方向藉桥部排列成一 列来配置有复数个,并使上述电子束通孔之列以朝 上述罩本体之长轴方向并列成复数列来配设着。 20.如申请专利范围第17项所述之阴极射线管,其中, 上述罩本体之有效而被形成为,长轴方向之尺寸和 短轴方向之尺寸之比为16:9。21.一种阴极射线管之 制造方法,主要要制造具备有: 具有面板及漏斗形状管之真空波封,而上述面板实 质上具有矩形状之有效区域; 被形成于上述面板内面之萤光屏; 在上述真空波对内配设成相对向于上述萤光屏之 阴蔽罩,而此阴蔽罩具备有,具有成相对向于上述 萤光屏之概略为矩形状之有效面及形成于上述有 效面之多数电子束通孔的罩本体,和支撑着上述罩 本体周边缘部之概略为矩形状之框架;及 配设于上述漏斗形状管之颈内之用以朝向上述萤 光屏射出电子束用之电子枪的阴极射线管,其特征 为包括有以下之过程: 予以准备形成有多数之电子束通孔之概略为矩形 状之平板罩, 将上述平板罩予以实施可塑性变形来形成为,沿着 其长轴方向之曲率半径为无限大,而朝短轴方向弯 曲之圆筒状曲面来形成罩本体, 将上述被实施可塑性变形之罩本体使之产生弹性 变形来形成为沿着上述罩本体之上述短轴方向之 曲率半径,较上述被实施可塑性变形时之曲率半径 成为更为大,而后 固定上述被弹性变形之状态之罩本体周边缘部于 框架。22.如申请专利范围第20项所述之阴极射线 管,其中,上述面板之有效区域被形成为,具有朝水 平方向延伸之长轴及朝垂直方向延伸之短轴,而上 述有效区域外面实质上被形成为平坦,内面则被形 成为沿着上述长轴方向之曲率半径概略为无限大, 沿着上述短轴方向之曲率半径为遍及内面整体成 为一定之値的圆筒形状之曲面形状,至于上述罩本 体之有效曲面被形成为,具有朝水平方向延伸之长 轴及朝垂直方向延伸之短轴,而沿着遍及上述短轴 方向之曲率之有效面整概略为一定的圆筒形状之 曲面形状。23.如申请专利范围第20项所述之阴极 射线管,其中,上述面板或上述罩本体之有效区域 内面系具有以高次方之多项式来表示上述短轴方 向之曲率半径的曲面形状。图式简单说明: 第一图至第七图系显示有关本发明之第1实施例之 彩色阴极射线管。 第一图系上述彩色阴极射线管之剖面图。 第二图系以模式来显示上述彩色阴极射线管之实 例1有关之面板外面形状之斜视图。 第三图系沿着上述面板之X轴之剖面图。 第四图A及第四图B系个别沿着Y轴及IV-IV之面板剖 面图。 第五图系以模式来显示有关实例2之面板外面形状 的斜视图。 第六图系有关实例3之沿着面板Y轴之剖面图。 第七图系显示有关实例4之面板一部分之斜视图。 第八图至第十七图B系显示有关本发明之第2实施 例之彩色阴极射线管。 第八图系上述彩色阴极射线管之剖面图。 第九图系以模式来显示上述彩色阴极射线管之实 例1有关之面板外面形状之斜视图。 第十图系沿着上述面板之X轴之剖面图。 第十一图A及第十一图B系个别沿着轴及线XI-XI之面 板剖面图。 第十二图系有关实例3之沿着面板Y轴之剖面图。 第十三图系显示有关实例4之面板一部分之斜视图 。 第十四图系以模式来显示阴蔽罩整体之斜视图。 第十五图系显示上述阴蔽罩之单本体之平面图。 第十六图系沿着上述阴蔽罩之长轴方向之剖面图 。 第十七图A系在短轴上剖断上述阴蔽罩之剖面图。 第十七图B系沿着第十四图之线XVII-XVII剖断上述阴 蔽罩之剖面图。 第十八图A至第十八图D系个别地以概略性地来显 示上述阴蔽罩之制造过程之斜视图。 |
