硼酸盐化合物及含其之组成物

摘要

一种式Ⅰ或Ⅰ′化合物其中R1及R2为苯基，其经1-5次取代以C1-C20烷基，OR6 ，R9R10R11Si，反/或卤素，其条件为苯基于至少一邻位被取代，或 R1及R2为经R9R10R11Si取代之C1-C20烷基， R2a为苯撑； R3为经R9 R10R11Si取代之C1-C20烷基，或苯基，联苯基，菲基，及基，其中苯基，联苯基，菲基及基未取代或经1-5次取代以C1-C20烷基， OR6 ，R7R8N，R9R10R11Si，及/或卤素； R4为苯基，C1-C20烷基，其为未经取代或经 R9R10R11Si取代； F为R14R15R16P，R6R6 aS或R8R8aR7N； R6及R6a分别为C1-C12烷基； R7，R8及R8a分别为C1-C12烷基； R9，R10及R11分别为C1-C12烷基； R14，R15及R16分别为C1-C20烷基；及 G为硷金属，四级铵基，染料阳离子，过渡金属配位化合物肠离子，铳，氧化铳，磷或碘盐或含有阳离子基之 UV吸收剂，或为MgX或CaX基，其中X为C1-C8烷氧基或卤素；其条件为若R1，R2及R3为2，4，6-三甲基苯基，则 R4不为C2-C20烷基或C2-C8烷烯基，其特别适合用为反应性光起始剂。

主权项

1.一种式I或I'化合物,其中R1及R2为经R9R10R11Si取代之C1-C4烷基或经C1-C4烷基,OR6及/或卤素取代1-5次之苯基,其条件为苯基于至少一邻位被取代;R2a为苯撑;R3为经R9R10R11Si取代之C1-C4烷基,或为未经取代或经C1-C4烷基,OR6,R7R8N及/或卤素取代1-5次之苯基;或为菲基或基;R4为未经取代或经R9R10R11Si取代之C1-C4烷基或未经取代或经卤素取代之苯基;E为R8R8aR7N;R6为C1-C4烷基;R7,R8及R8a分别为C1-C4烷基;R9,R10及R11为C1-C4烷基;及G为四(C1-C10烷基)铵,苯甲基-三(C1-C4烷基)铵,甲基-三(C1-C16烷基)铵,花青染料阳离子,磷盐或盐;其条件为若R1,R2及R3为2,4,6-三甲基苯基,则R4不为C2-C4烷基。2.一种组成物,其包含(a)至少一烯属不饱和光可聚合化合物,及(b)至少一种如申请专利范围第1项之式I或I'化合物;且可选择地其除了光起始剂(b)外,其包含至少一进一步之光起始剂(d),其系选自包括二茂钛,二茂铁,二苯酮,苯偶姻烷基醚,苯偶醯缩酮,4-芳醯基-1,3-二氧戊环,二烷氧基乙醯苯,-羟基-或-胺基醯苯,-羟基环烷基苯基酮,呫吨酮,呫吨酮,或单-或双醯基膦氧化物或其混合物及/或其他添加剂及/或共起始剂所组成之族群中,其包含,基于该组成物,0.05至15重量%之组成(b)或组成(b)及(d),且可选择地除了组成(a)及(b)外,其包括至少一种中性,阳离子或阴离子染料,或UV吸收剂作为共起始剂(c),且可选择地除了组成(a)及(b)外,其包括至少一式III之硼酸盐化合物其中Ra,Rb,Rc及Rd分别为C1-C12烷基,或苯基;及Z为可形成正离子的基。3.根据申请专利范围第1项之化合物,其系使用于光聚合一种非挥发性单体、低聚或聚合性化合物含有至少一烯属未饱和双键的方法中,藉由以由红外线区域至200nm波长的UV区域的灯照射此混合物。4.根据申请专利范围第3项之化合物,其系用于制造经染色与非经染色的涂料及清漆,印刷油墨,粉末涂覆,印刷板,黏着剂,牙科的组成物,导波器,光学开关,彩色涂胶系统,玻璃纤维电缆涂覆物,筛网印刷模板,阻抗材料,用为胶囊化电的与电子元件之材料,用为照相再制方法,用为制造复合组成物,用为制造磁性记录材料,用为藉由立体石印术制造三次元物体,及用为影像记录材料,特别用为全息照相记录物。5.根据申请专利范围第2项之组成物,其系使用于涂覆基质。6.根据申请专利范围第5项之组成物,其中经涂覆基质用于一种用为浮凸影像的照相制造方法中,其包含将经涂覆基质进行以影像曝光,然后以溶剂移除未曝光部份。