| 摘要 |
<p>L'invention concerne un système et un procédé destinés à alimenter deux dispositifs à magnétrons. Le système peut comprendre un dispositif d'alimentation (10) servant à alimenter un premier dispositif à magnétrons et un second dispositif à magnétrons. Un dispositif de commande peut réguler la quantité de courant atteignant au moins le premier dispositif à magnétrons.</p> |
