| 主权项 |
1.一种电子枪,至少依序包含下列各物件:一个含有一个阴极,一个第一栅极与一个第二栅极的三极部份;一个含有该第二栅极及一个第三栅极的前置聚焦部份;与及一个依序含有第三栅极,……,及一个第n栅极的主镜头;其中,该第一栅极及该第二栅极两者之中至少一个栅极的电子束孔径是一个长方形孔,并被形成于较长边在某一方向延伸的狭缝状凹壁的中心;而且,该长方形孔在垂直某一方向上的宽度大于该狭缝状在垂直某一方向上的宽度。2.如申请专利范围第1项之电子枪,其中,该某一方向系水平方向。3.如申请专利范围第1项之电子枪,其中,该至少一个栅极系指该第二栅极。4.如申请专利范围第3项之电子枪,其中,该狭缝状凹壁系形成于该第二栅极中,该第二栅极位于面对该第一栅极的一边上。5.一种彩色阴极射线管,其包含一个真空包封,一个容纳一个电子枪的颈部,与及一个连接该面板部份及颈部的漏斗部份,该真空包封含有一个磷形成于内部表面的面板部份,而且,至少一个阴影光罩悬于该真空包封内,其中该电子枪至少依序包含下列物件:一个含有一个阴极,一个第一栅极与一个第二栅极的三极部份;一个含有该第二栅极及一个第三栅极的前置聚焦部份;而且一个含有第三栅极,……,及第n栅极的主镜头部份,而且,该第一栅极与该第二栅极,两者之中,至少有一个栅极的电子束孔径是长方形孔,并且,被形成于较长边在某一方向延伸的狭缝状凹壁的中心内,而且,该长方形孔在垂直某一方向上的宽度大于该狭缝状凹壁在垂直某一方向上的宽度。6.如申请专利范围第5项之彩色阴极射线管,其中,该某一方向系指水平方向7.如申请专利范围第5项之彩色阴极射线管,其中,该至少一个栅极系指该第二栅极。8.如申请专利范围第7项之彩色阴极射线管,其中,该狭缝状凹壁系形成于该第二栅极内,该第二栅极系位于面对该第一栅极的一边上。9.如申请专利范围第7项之彩色阴极射线管,其中,满足下列说明:0.5≧d-w≧0.2d代表该长方形孔在垂直该某一方向上的该宽度,而w代表该狭缝状凹壁在垂直该某一方向上的该宽度。10.如申请专利范围第5项之彩色阴极射线管,其中,该狭缝状凹壁含有一个壁,该壁与垂直该至少一个栅极的表面的直线,两者之间有一个倾斜角。11.如申请专利范围第10项之彩色阴极射线管,其中,该倾斜角是在10至30的范围之内。12.如申请专利范围第5项之彩色阴极射线管,其中,该n是6。13.如申请专利范围第5项之彩色阴极射线管,其中,该狭缝状凹壁的深度是在该电子束孔径的内壁高度的50-80%之内。图式简单说明:图1(a)及1(b)系说明视图,以说明使用于传统电子枪内的第二栅极的结构,图1(a)是前视图,而图1(b)是图1(a)的A-A截面图;图2(a)及2(b)系说明视图以说明使用于另一种传统电子枪内的第二栅极,图2(a)系电子束孔径部份的前视图,而图2(b)系图2(a)的A-A截面图;图3(a)及3(b)系说明视图,以显示使用于又是另外一种传统电子枪中的第二栅极的结构,图3(a)是电子束孔径部份的前视图,图3(b)是图3(a)的A-A截面图;图4系在构成传统电子枪的第二栅极处的电力线分布之说明视图;图5(a)及5(b)系说明视图,以部份地说明构成根据本创作的电子枪的一部份的第二栅极的一个实施例,图5(a)系一个前方正视图,图5(b)系图5(a)的A-A截面图;图6系在构成根据本创作的电子枪的第二栅极处的电力线的说明视图;图7(a)及7(b)系一个成形制程的一个过渡步骤的视图,以说明制造根据本创作的第二栅极的方法,图7(a)系第二栅极的基本部份的平面视图,而图7(b)系图7(a)的A-A截面图;图8(a)及8(b)系成形制程的另一个过渡步骤的视图,以说明制造根据本创作的第二栅极的方法,图8(a)系第二栅极的基本部份的平面视图,而图8(b)系图8(a)的A-A截面图;图9(a)及9(b)系成形制程的另一个过渡步骤的视图,以说明制造根据本创作的第二栅极的方法,图9(a)系第二栅极基本部份的平面视图,图9(b)系图9(a)的A-A截面图;图10(a)及10(b)系说明视图,以说明一个实施例,于该实施例中,根据本创作的第二栅极被作为一个三光束栅极,图10(a)系一前视图,图10(b)系图10(a)的A-A截面图;图11系一个直列式(in-line)彩色电子枪的外部视图,根据本创作的第二栅极被应用于该电子枪;而且图12是一个截面视图,以说明使用直列式(in-line)型彩色电子枪的彩色阴极射线管的一个结构实施例,根据本创作的第二栅极被应用于该电子枪。 |
