| 主权项 |
1.一种流体喷射装置,其系与一流体储槽相连通,该 流体喷射装置包含有: 一基板,其包含有一歧管,用来接收该流体储槽中 之流体; 一喷孔层,设于该基板之顶侧,其会与该基板之顶 侧形成复数个流体腔;以及 复数个喷嘴,以对应于该复数个流体腔之方式设于 该喷孔层上,用来喷出该复数个流体腔内之流体以 形成复数个液滴,每一喷嘴包含有: 一喷孔,形成于该喷孔层上;以及 至少三个气泡产生构件,电连接于一驱动电路,并 分别设于该喷孔之一第一侧及一第二,该第一侧及 该第二侧皆至少设有一该气泡产生构件,且该第一 侧及该第二侧中之一侧至少设两该气泡产生构件, 该驱动电路会驱动设于该第一侧之气泡产生构件 于一对应的流体腔内产一第一气泡,并驱动设于该 第二侧之气泡产生构件当该第一气泡产生后于该 对应的流体腔内生一第二气泡,而该第二气泡会将 该第一气泡及该第二气泡之间的流体推挤出该喷 孔而形成一对应的液滴; 其中该驱动电路会选择性地驱动该复数个气泡产 生构件,而使得每一喷嘴可从其喷孔喷出大小不同 之液滴。2.如申请专利范围第1项之流体喷射装置, 其中设于该第一侧之气泡产生构件与该歧管间的 距离小于设于该第二侧之气泡产生构件与该歧管 间的距离。3.如申请专利范围第2项之流体喷射装 置,其中该第一气泡系用来作为该流体腔内之一虚 拟气阀(Virtual valve),当该第二气泡产生后,该第一 气泡会限制该第一气泡及该第二气泡间的流体往 该歧管流动。4.如申请专利范围第1项之流体喷射 装置,其中每一气泡产生构件皆为一加热器,用来 热该对应的流体腔内之流体,而该驱动电路会驱动 设于该第一侧之加热器对该对应的流体腔内之流 体加热以产生该第一气泡,并驱动设于该第二侧之 加热器对该对应的流体腔内之流体加热以于该第 一气泡产生后产生该第二气泡。5.如申请专利范 围第4项之流体喷射装置,其中设于该第一侧之加 热器与该歧管间的距离小于设于该第二侧之加热 器与该歧管间的距离。6.如申请专利范围第5项之 流体喷射装置,其中该第一气泡系用来作为该流体 腔内之一拟气阀(Virtual valve),当该第二气泡产生后 ,该第一气泡会限制该第一气泡及该第二气泡之间 的流体往该歧管流动。7.如申请专利范围第4项之 流体喷射装置,其中至少有一设于该第一侧之加热 器与一设于该第二侧之加热器以串联的方式相连 接,而该串联的加热器中设于该第一侧之加热器的 电阻値大于设于该第二侧之加热器的电阻値。8. 如申请专利范围第7项之流体喷射装置,其中每一 设于该第一侧之加热器分别与一设于该第二侧之 加热器以串联的方式相连接。9.如申请专利范围 第7项之流体喷射装置,其中该第一侧至少设有两 该加热器,而每一嘴包含有一导线,用来将一设于 该第二侧之加热器与复数个设于该第一侧之加热 器连接,该动电路会施加电压于设于该第一侧之加 热器,以产生该第一及第二气泡。10.如申请专利范 围第7项之流体喷射装置,其中该第二侧至少设有 两该加热器,而每一喷嘴包含有一导线,用来将一 设于该第一侧之加热器与复数个设于该第二侧之 加热器连接,该动电路会施加电压于设于该第二侧 之加热器,以产生该第一及第二气泡。11.如申请专 利范围第4项之流体喷射装置,其中至少有一设于 该第一侧之加热器与一设于该第二侧之加热器以 并联的方式相连接,而该并联的加热器中设于该第 一侧之加热器的电阻値小于设于该第二侧之加热 器的电阻値。12.如申请专利范围第4项之流体喷射 装置,其中该喷孔层至少包含有两相互平行的结构 层,每一结构层上至少设有一该加热器。13.如申请 专利范围第12项之流体喷射装置,其中该喷嘴所形 成之液滴会沿一液滴射出方向射出该喷孔,而该复 数个加热器中至少有两加热器沿该液滴射出方向 线性地设置于该两结构层上。14.如申请专利范围 第1项之流体喷射装置,其中该喷嘴所形成之液滴 会沿一液滴射出方向射出该喷孔,而该复数个气泡 产生构件系相互平行地排列于该喷孔之第一侧及 第二侧。15.如申请专利范围第1项之流体喷射装置 ,其中设于该第一侧之气泡产生构件系排列在第一 直线上,设于该第二侧之气泡产生构件系排列在一 第二直线上,而该第一直线与该第二线系相互平行 。16.一种流体喷射装置,其系与一流体储槽相连通 ,包含有: 一喷孔,设置于该流体储槽上方; 一第一组气泡产生器,设置于该喷孔之一第一侧, 可在该流体储槽内产生一第一气泡以成一虚拟气 阀以限制该流体储槽内之流体的流动; 一第二组气泡产生器,设置于该喷孔之一第二侧, 可在该流体储槽内产生一第二气泡,该第二气泡会 将该第一气泡及该第二气泡之间的流体推挤出该 喷孔而形成一对应的液滴; 其中该第一组气泡产生器或是该第二组气泡产生 器至少包含两个可以独立控制的气泡产生构件。 17.如申请专利范围第16项之流体喷射装置,其中该 气泡产生构件系为一加热器。18.如申请专利范围 第16项之流体喷射装置,其中该两个可以独立控制 的气泡产生构件与该喷孔之距离不同。图式简单 说明: 图一为习知流体喷射装置之示意图。 图二为本发明流体喷射装置之示意图。 图三为图二喷嘴之俯视图。 图四为图二流体喷射装置沿切线4-4之剖面图。 图五为图二流体喷射装置于气泡产生时之剖面示 意图。 图六为图二流体喷射装置于流体射出时之剖面示 意图。 图七为图二流体喷射装置于流体射出时之第二种 剖面示意图。 图八为图二流体喷射装置于流体射出时之第三种 剖面示意图。 图九为本发明第二实施例流体喷射装置之喷嘴的 俯视图。 图十为本发明第三实施例流体喷射装置之喷嘴的 俯视图。 图十一为本发明第四实施例流体喷射装置之喷嘴 的俯视图。 图十二为本发明第五实施例流体喷射装置之喷嘴 的俯视图。 图十三为图十二喷嘴沿切线13-13之剖面图。 图十四为图十二喷嘴沿切线14-14之剖面图。 图十五为图十二喷嘴沿切线15-15之剖面图。 图十六为本发明第六实施例流体喷射装置之喷嘴 的剖面图。 图十七为本发明第七实施例流体喷射装置之喷嘴 的俯视图。 图十八为本发明第八实施例流体喷射装置之喷嘴 的俯视图。 图十九为本发明第九实施例流体喷射装置之喷嘴 的俯视图。 图二十为图十九喷嘴沿切线20-20之剖面图。 |
