发明名称 Off axis alignment system for scanning photolithography
摘要
申请公布号 EP0698826(B1) 申请公布日期 2002.06.05
申请号 EP19950112089 申请日期 1995.08.01
申请人 SVG LITHOGRAPHY SYSTEMS, INC. 发明人 ANGELEY, DAVID;DRAZKIEWICZ, STAN;GALLATIN, GREGG
分类号 G03F7/20;G03F9/00;H01L21/027;(IPC1-7):G03F9/00 主分类号 G03F7/20
代理机构 代理人
主权项
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