发明名称 | 乙烯基有机/无机纳米杂化材料的合成方法 | ||
摘要 | 本发明是提供一种乙烯基有机/无机纳米杂化材料的合成方法,本方法采用传统的Sol-Gel方法,将无机组分Sol-Gel前体正硅酸乙酯在盐酸催化下水解成溶胶,在溶胶中加入乙烯基单体,形成凝胶。再采用γ射线辐照原位聚合凝胶中乙烯基单体,从而获得乙烯基有机/无机纳米杂化材料,聚合原理为自由基聚合。本发明可制备高无机(SiO<SUB>2</SUB>)含量的杂化材料,材料的制备周期短,且聚合方法简单易行,整个过程易于工业化。#! | ||
申请公布号 | CN1085679C | 申请公布日期 | 2002.05.29 |
申请号 | CN98108617.9 | 申请日期 | 1998.05.09 |
申请人 | 中国科学院长春应用化学研究所 | 发明人 | 门永锋;董德文;蒋世春;姜炳政 |
分类号 | C08F130/08 | 主分类号 | C08F130/08 |
代理机构 | 长春科宇专利代理有限责任公司 | 代理人 | 曹桂珍 |
主权项 | 1.一种乙烯基有机/无机纳米杂化材料的合成方法,是以传统的溶胶—凝胶法为基础,其特征在于采用溶胶—凝胶前体正硅酸乙酯在盐酸催化下水解成溶胶,在溶胶中加入乙烯基单体,形成凝胶,凝胶中乙烯基单体的聚合采用γ-射线辐照原位聚合,采用的乙烯基单体结构如下式:<img file="C9810861700021.GIF" wi="395" he="164" />R<sub>1</sub>=H,CH<sub>3</sub>R<sub>2</sub>=CH<sub>2</sub>CH<sub>2</sub>OH,H(CH<sub>2</sub>)<sub>3</sub>Si(OR)<sub>3</sub> R=Me,Et在制备过程中,正硅酸乙酯(TEOS)在盐酸催化下水解成溶胶,乙烯基单体加入到溶胶中,形成凝胶,凝胶制备温度在30-50℃,之后在γ-射线辐照下聚合,聚合温度在5-45℃,辐照剂量为5-100KGy,辐照时间为4-20小时,然后将样品置于60-80℃加热干燥1-2周,所得最终杂化材料中无机SiO<sub>2</sub>含量可达60%,在可见光范围内透光率在85%-100%。 | ||
地址 | 130022吉林省长春市人民大街159号 |