| 摘要 |
<p>Die Erfindung betrifft ein Beleuchtungssystem für Wellenlängen <= 193 nm, insbesondere für die EUV-Lithographie, mit einer Lichtquelle; einem ersten optischen Element mit ersten Rasterelementen, das durch die Lichtquelle ausgeleuchtet wird und daß das von der Lichtquelle her einfallende Lichtbündel in konvergente Lichtbüschel ,mit je einem Fokuspunkt zerlegt; einem zweiten optischen Element mit zweiten Rasterelementen, wobei jedem Lichtbüschel, welches vom ersten Rasterelement ausgebildet wird, ein zweites Rasterelement zugeordnet ist; Die Erfindung ist dadurch gekennzeichnet, daß die zweiten Rasterelemente des zweiten optischen Elementes außerhalb des Fokuspunktes des von den ersten Rasterelementen des ersten optischen Elementes erzeugten Strahlbüschels liegen. <IMAGE></p> |
