发明名称 成膜方法和成膜装置
摘要 本发明提供了成膜方法和成膜装置,液状膜形成部分由保护膜滴液喷嘴102和使该保护膜滴液喷嘴102沿y方向移动的喷嘴移动机构以及设置在直径200mm的被处理基板110上的使被处理基板110沿x方向移动的被处理基板移动台构成。液状膜干燥部分由吸嘴101和与吸嘴101相连的真空泵103构成。另外,被处理基板移动台也是构成液状膜干燥部分的一部分。利用上述成膜方法及装置,可以抑制涂膜的膜厚不均现象,缩短形成涂膜所需的时间。
申请公布号 CN1347137A 申请公布日期 2002.05.01
申请号 CN01140673.9 申请日期 2001.09.20
申请人 株式会社东芝 发明人 江间达彦;伊藤信一
分类号 H01L21/027;H01L21/30;G03F7/16 主分类号 H01L21/027
代理机构 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 代理人 王杰
主权项 1、一种成膜方法,包括液状膜形成工艺和干燥工艺,其中的液状膜形成工艺是与被处理基板相对,在基板上调整至一定量展开,从滴液喷嘴滴下在溶剂中添加了固形成分的药液,使前述滴液喷嘴与前述被处理基板相对移动,在前述被处理基板整个面上形成液状膜的工艺,其中的干燥工艺是为了除去前述液状膜中的溶剂形成涂膜的工艺,其中,前述干燥工艺的进行是在前述被处理基板上与该液状膜表面不接触的距离配置吸嘴,该吸嘴与该被处理基板相对移动,同时前述吸嘴正下方的溶剂氛围气从该吸嘴的吸气口被吸走。
地址 日本东京都