具有防止污垢堆积和腐蚀能力的半导体废气处理装置

摘要

一种具防止污垢堆积和腐蚀能力的半导体废气处理装置,该装置至少包括有一顶座、一废气处理槽及一导引环。首先利用顶座发生的高温火焰对废气进行高温催化分解作用,再利用导引环和废气处理槽的配合,在反应室的壁面上形成一环状水墙,以隔离废气中的粉末及腐蚀性物质,进而防止废气处理槽发生污垢堆积和腐蚀现象。

主权项

1.一种具有防止污垢堆积和腐蚀能力的半导体废气处理装置，该装置是针对半导体废气处理设备中的废气处理槽进行设计的，其主要包括有一顶座、一废气处理槽和一导引环，其特征在于：所述废气处理槽组设于顶座的下方，在其中心处设有一反应室，在该反应室的外围形成有一层环状容水室，该容水室具有一入水口和一排水口，并且在该容水室的顶端设有一与反应室相连通的环状溢流槽，在该溢流槽处组设有导引环。