| 发明名称 |
Electroplating processes compositions and deposits |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
GB2323853(B) |
申请公布日期 |
2002.04.24 |
| 申请号 |
GB19970006120 |
申请日期 |
1997.03.25 |
| 申请人 |
* ENTHONE-OMI;* ENTHONE-OMI INC |
发明人 |
JEAN-MICHEL * GIORIA |
| 分类号 |
C25D3/62;(IPC1-7):C25D3/62;C22C5/02 |
主分类号 |
C25D3/62 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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