| 摘要 |
<p>본 발명은 챔버, 이온 빔 소스, 다중 타겟, 셔터 및 챔버 내에서 이온 빔 스퍼터 증착 공정 중에 웨이퍼 기판을 단단하게 지지하기 위한 기판 스테이지를 갖는 이온 빔 스퍼터링 시스템에 관한 것이다. 기판 스테이지는 자신의 수직축에 대해 기울기를 가질 수 있도록 만들어지므로, 타겟에서 나온 플럭스는 웨이퍼 기판을 비수직각으로 충돌하여 이온 빔 스퍼터링 시스템 내에서 기판에 증착되는 박막의 두께 균일성은 물론 물리적, 전기적 및 자기적 특성이 개선된다.</p> |
