| 发明名称 | 制备可去除的自净表面的方法 | ||
| 摘要 | 本发明涉及用于制备自净表面的方法,该表面具有凸出部和凹部,凸出部之间的间距为0.1－200μm,凸出部的高度为0.1－100μm,该方法中涂敷含疏水材料的溶液、分散液或乳化液,并接着进行干燥,在溶剂蒸发时,经自结构形成自净表面,并且所涂敷的材料是用洗涤剂可去除的。 | ||
| 申请公布号 | CN1344297A | 申请公布日期 | 2002.04.10 |
| 申请号 | CN00805310.3 | 申请日期 | 2000.03.18 |
| 申请人 | 威廉·巴思洛特;克里斯托弗·奈恩休斯 | 发明人 | 威廉·巴思洛特;克里斯托弗·奈恩休斯 |
| 分类号 | C09D5/00;C08J7/04;C08J7/06 | 主分类号 | C09D5/00 |
| 代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人 | 卢新华;谭明胜 |
| 主权项 | 1.一种用于制备自净表面的方法，该表面具有凸出部和凹部，凸出部之间的间距为0.1-200μm，凸出部的高度为0.1-100μm，该方法中，涂敷含疏水材料的溶液、分散液或乳化液并接着进行干燥，在溶剂蒸发时通过自结构形成自净表面，该所涂敷的材料是用洗涤剂可去除的。 | ||
| 地址 | 德国波恩 | ||