发明名称 METHOD FOR TREATING SUBSTRATES FOR MICROELECTRONICS AND SUBSTRATES OBTAINED ACCORDING TO SAID METHOD
摘要
申请公布号 KR20020026375(A) 申请公布日期 2002.04.09
申请号 KR1020027002224 申请日期 2002.02.20
申请人 发明人
分类号 H01L21/324 主分类号 H01L21/324
代理机构 代理人
主权项
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