| 发明名称 |
Plasma processing system and method for delivering RF power to a plasma processing chamber |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
EP1190437(A1) |
申请公布日期 |
2002.03.27 |
| 申请号 |
EP20000948512 |
申请日期 |
2000.06.15 |
| 申请人 |
LAM RESEARCH CORPORATION |
发明人 |
FISCHER, ANDREAS;KADKHODAYAN, BABAK;KUTHI, ANDRAS |
| 分类号 |
H01J37/32;H01L21/205;H01L21/302;H01L21/3065;(IPC1-7):H01J37/32 |
主分类号 |
H01J37/32 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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