发明名称 曝光装置
摘要 曝光装置系具备光罩支持部,该光罩支持部系将形成有曝光图案之光罩可移动地支持在接触于被曝光物之曝光位置与从被曝光物离开之离开位置之间。设有曝光光源,该曝光光源系光罩移动至曝光位置之状态下,通过光罩俾曝光被曝光物。净化气体供应器系光罩移动至离开位置时,将净化气体从第一供应部流至被曝光物与光罩之间以防止侵入异物,光罩移动至曝光位置时,将净化气体从第二供应部供应至光罩外面俾冷却光罩。
申请公布号 TW480541 申请公布日期 2002.03.21
申请号 TW089128161 申请日期 2000.12.28
申请人 东芝股份有限公司 发明人 二阶堂胜;石野智明;田所彻也
分类号 H01J9/227 主分类号 H01J9/227
代理机构 代理人 林志刚 台北巿南京东路二段一二五号七楼
主权项 1.一种曝光装置,属于将被曝光物施以曝光的曝光装置,其特征为具备:相对向配设于上述被曝光物,支持曝光图案所形成之光罩,同时将光罩移动在接触于上述曝光物之曝光位置与从上述被曝光物离开之离开位置之间的罩支持部;及在上述光罩移动至上述曝光装置之状态,通过上述光罩俾曝光上述被曝光物的曝光光源;及上述光罩移动至上述离开位置时,在上述被曝光物与光罩之间流动净化气体的净化气体供应器。2.如申请专利范围第1项所述之曝光装置,其中,上述净化气体供应器系具备:上述光罩移动至离开位置时,将净化气体供应至被曝光物与光罩之间的第一供应部,及上述光罩移动至上述开离位置时,及上述光罩移动至上述曝光装置时,将净化气体供应至光罩之外面的第二供应部。3.如申请专利范围第2项所述之曝光装置,其中,上述净化气体供应器系具备随着上述光罩之移动,调整来自上述第一供应部之净化气体之供应的调整机构。4.如申请专利范围第2项所述之曝光装置,其中,上述净化气体供应器系具备:邻设于上述罩支持部及光罩之端部,同时在内部具有送风空间的本体,及形成于上述本体且在上述送风空间导入气体的吸气口;上述第一供应部系具备形成于上述本体且连通于上述送风空间,同时位在近旁且相对向于上述光罩之端部的第一吐出口;上述第二供应部系具备具朝上述本体延伸同时朝上述光罩外面的第二吐出口的喷嘴。5.如申请专利范围第2项所述之曝光装置,其中,上述净化气体供应器系具备:邻设于上述罩支持部及光罩之端部,同时在内部具有送风空间的本体,及形成于上述本体且在上述送风空间导入气体的吸气口;上述第一供应部系具备形成于上述本体且连通于上述送风空间,同时邻接且相对向于上述光罩之端部的吐出口;上述第二供应部系具备从上述本体朝上述光罩外面延伸,并将从上述吐出口所吐出之净化气体引导至上述光罩外面的引导部。6.如申请专利范围第2项所述之曝光装置,其中,在上述光罩移动至离开位置时,流在上述光罩外面上的净化气体之风速系4.7m/s以上;在上述光罩移动至曝光位置时,流在上述被曝光物与光罩之间的净化气体之风速系2.7m/s。7.如申请专利范围第1项所述之曝光装置,其中,上述净化气体供应器系具有将净化气体施以离子化的离子化机构。8.如申请专利范围第5项所述之曝光装置,其中,离子化机构系具有将净化气体施以正电荷及负电荷之交互地离子化的交流型式离子化器。9.一种曝光装置,属于将具有相对向之两面的被曝光物施以曝光的曝光装置,其特征为具备:相对向配设于上述被曝光物之各面,分别支持曝光图所形成之光罩,同时将各光罩移动在接触于上述被曝光物之对应面之曝光位置与从上述被曝光物离开之离开位置的罩支持部;及在上述各光罩移动至上述曝光位置之状态,分别通过上述光罩俾曝光上述被曝光物之各面的一对曝光光源;及上述各光罩移动至上述离开位置时,在上述被曝光物与各光罩之间流动净化气体的净化气体供应器。10.如申请专利范围第9项所述之曝光装置,其中,上述净化气体供应器系具备:上述各光罩移动至离开位置时,将净化气体供应至被曝光物与各光罩之间的第一供应部,及上述各光罩移动至上述离开位置时,及上述各光罩移动至上述曝光装置时,将净化气体供应至上述各光罩之外面的第二及第三供应部。11.如申请专利范围第10项所述之曝光装置,其中,上述净化气体供应器系具备随着上述光罩之移动,调整来自上述第一供应部之净化气体之供应的调整机构。12.如申请专利范围第10项所述之曝光装置,其中,上述净化气体供应器系具备:邻设于上述罩支持部及光罩之端部,同时在内部具有送风空间的本体,及形成于上述本体且在上述送风空间导入气体的吸气口;上述第一供应部系具备形成于上述本体且连通于上述送风空间,同时位在近旁且相对向于上述光罩之端部的第一吐出口;上述第二供应部系具备从上述本体延伸同时朝其中一方之光罩外面的第二吐出口的喷嘴;上述第三供应部系具备从上述本体延伸同时具朝另一方之光罩外面的第三吐出口的喷嘴。13.如申请专利范围第10项所述之曝光装置,其中,上述净化气体供应器系具备:邻设于上述罩支持部及光罩之端部,同时在内部具有送风空间的本体,及形成于上述本体且在上述送风空间导入气体的吸气口;上述第一供应部系具备形成于上述本体且连通于上述送风空间,同时邻接且相对向于上述光罩之端部的吐出口;上述第二供应部系具备从上述本体朝其中一方之光罩外面延伸,并将从上述吐出口所吐出之净化气体引导至上述其中一方之光罩外面的引导部;上述第三供应部系具备从上述本体朝另一方之光罩外面延伸,并将从上述吐出口所吐出之净化气体引导至上述另一方之光罩外面的引导部。图式简单说明:第1图系表示本发明之实施例的曝光装置之曝光时之动作状态之上述曝光装置的纵剖视图。第2图系表示上述曝光装置之光罩开放时之动作状态之上述曝光装置的纵剖视图。第3图系表示本发明之第二实施例的曝光装置之曝光时之动作状态之上述曝光装置的纵剖视图。第4图系表示上述第二实施例的曝光装置之光罩开放时之动作状态之上述曝光装置的纵剖视图。
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