| 发明名称 |
PHOTOSENSITIVE RESIN RESIST BASED ON THE PHOTOSENSITIVE RESIN EXPOSURE APPARATUS AND EXPOSURE METHOD USING THE RESIST AND SEMICONDUCTOR DEVICE OBTAINED BY THE EXPOSURE METHOD |
| 摘要 |
<p>본 발명은 노출광에 대해 고감도인 감광성 수지에 관한 것이다. 감광성 수지는 측쇄에 지환족 기를 갖는 비닐 단량체 잔기, 및 술포닐 잔기를 포함한다.</p> |
| 申请公布号 |
KR100327623(B1) |
申请公布日期 |
2002.03.14 |
| 申请号 |
KR19990004052 |
申请日期 |
1999.02.05 |
| 申请人 |
null, null |
发明人 |
마쯔다,미노루;마에하라,히로시;사까이,게이따 |
| 分类号 |
H01L21/027;C08G75/22;G03F7/004;G03F7/039;H01L21/312 |
主分类号 |
H01L21/027 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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