发明名称 | 化学机械研磨机台 | ||
摘要 | 一种化学机械研磨机台,包括多个研磨台,呈同心圆环状配置,彼此以一间距相邻,设于旋转座上,并以同一方向旋转;在各研磨台上,装有形状相符的研磨垫;以及一分送管,置于研磨垫上方,分送管未与研磨垫相接触,分送管包括分送管柄与分送管面,分送管面上有多个孔洞,用以输送研浆至研磨垫上,各研磨台具有相同的切线速度,以提高晶片表面的研磨均匀度,各研磨垫材料之间可略有差异,包括材料密度、粗糙程度与化学成份方面。$#! | ||
申请公布号 | CN1080620C | 申请公布日期 | 2002.03.13 |
申请号 | CN98118900.8 | 申请日期 | 1998.09.08 |
申请人 | 台湾积体电路制造股份有限公司 | 发明人 | 刘尹智;李森楠 |
分类号 | B24B37/04 | 主分类号 | B24B37/04 |
代理机构 | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人 | 杨梧 |
主权项 | 1.一种化学机械研磨机台,其特征在于,该机台包括:多个研磨台,呈同心圆环状配置,彼此以一间距相邻,分别设于一旋转座上,并均以一方向旋转,该各研磨台具有相同的切线研磨速度;多个研磨垫,分别铺设于该各形状大小相同的研磨台上;以及一分送管,置于该各研磨垫上方,且该分送管未与该各研磨垫相接触。 | ||
地址 | 台湾省新竹科学工业园区 |