| 主权项 |
1.一种共轭光路式二维位移量测方法,其步骤包括: (1)藉由一光源,产生一第一次入射光,入射于一绕 射单元; (2)该第一次入射光,经该绕射单元反射后,形成至 少两道第一次绕射光; (3)该第一次绕射光,经由波前重建光学组件之作用 ,形成循原光径折回,入射于该绕射单元之第二次 入射光; (4)该第二次入射光,经该绕射单元反射后,形成至 少两道第二次绕射光; (5)该第二次绕射光,经由干涉光学组件之作用,形 成至少两道干涉光; (6)将该干涉光,经一般光干涉解相技术处理后,即 可得到二维运动中两个线性独立方向上的位移量 。2.如申请专利范围第1项所述之共轭光路式二维 位移量测方法,其中光源系为一可发出近乎同调光 之光源,其可为线偏振光、圆偏振光或椭圆偏振光 。3.如申请专利范围第1项所述之共轭光路式二维 位移量测方法,其中第一次入射光系为一近乎平行 化之光束,其可由一光源和一平行化透镜之组合产 生,或由一可产生平行光束之光源产生。4.如申请 专利范围第1项所述之共轭光路式二维位移量测方 法,其中第一次入射光入射于绕射单元之方向,系 为近乎入射点之法线方向。5.如申请专利范围第1 项所述之共轭光路式二维位移量测方法,其中绕射 单元可为反射型绕射单元或透射型绕射单元。6. 如申请专利范围第1项所述之共轭光路式二维位移 量测方法,其中绕射单元可为平面型绕射单元、柱 面型绕射单元或球面型绕射单元。7.如申请专利 范围第1项所述之共轭光路式二维位移量测方法, 其中绕射单元为具有二维绕射光栅图样之元件,其 光栅图样系依绝对式量测模式、增量式量测模式 或附标记增量式量测模式进行设计。8.如申请专 利范围第1项所述之共轭光路式二维位移量测方法 ,其中第一次绕射光与第二次绕射光皆载有和二维 运动位移量相关之相位偏移讯号。9.如申请专利 范围第1项所述之共轭光路式二维位移量测方法, 其中第一次绕射光与第二次绕射光皆为第一阶的 绕射光。10.如申请专利范围第1项所述之共轭光路 式二维位移量测方法,其中干涉光载有和二维运动 的两个线性独立方向位移量相关之干涉讯号。11. 如申请专利范围第1项所述之共轭光路式二维位移 量测方法,其中波前重建光学组件,可为角立方反 射镜(CORNER CUBE)。12.如申请专利范围第1项所述之 共轭光路式二维位移量测方法,其中波前重建光学 组件,可由一平行化透镜和一平面反射镜组合而成 。13.如申请专利范围第1项所述之共轭光路式二维 位移量测方法,其中波前重建光学组件,可为背面 镀有反射层之渐折射率透镜(GRIN LENS)。14.如申请 专利范围第1项所述之共轭光路式二维位移量测方 法,其中干涉光学组件,可为一偏极分光镜。15.一 种共轭光路式二维位移量测方法,其步骤包括: (1)藉由一光源,产生一第一次入射光,入射于一绕 射单元; (2)该第一次入射光,经该绕射单元反射后,形成至 少两道第一次绕射光; (3)该第一次绕射光,经由波前重建光学组件之作用 ,形成循原光径折回,入射于该绕射单元之第二次 入射光; (4)该第二次入射光,经该绕射单元反射后,形成至 少两道第二次绕射光; (5)将该第二次绕射光,经一般光干涉解相技术处理 后,即可得到二维运动中两个线性独立方向上的位 移量。16.如申请专利范围第15项所述之共轭光路 式二维位移量测方法,其中光源系为一可发出近乎 同调光之光源,其可为线偏振光、圆偏振光或椭圆 偏振光。17.如申请专利范围第15项所述之共轭光 路式二维位移量测方法,其中第一次入射光系为一 近乎平行化之光束,其可由一光源和一平行化透镜 之组合产生,或由一可产生平行光束之光源产生。 18.如申请专利范围第15项所述之共轭光路式二维 位移量测方法,其中第一次入射光入射于绕射单元 之方向,系为近乎入射点之法线方向。19.如申请专 利范围第15项所述之共轭光路式二维位移量测方 法,其中绕射单元可为反射型绕射单元或透射型绕 射单元。20.如申请专利范围第15项所述之共轭光 路式二维位移量测方法,其中绕射单元可为平面型 绕射单元、柱面型绕射单元或球面型绕射单元。 21.如申请专利范围第15项所述之共轭光路式二维 位移量测方法,其中绕射单元为具有二维绕射光栅 图样之元件,其光栅图样系依绝对式量测模式、增 量式量测模式或附标记增量式量测模式进行设计 。22.如申请专利范围第15项所述之共轭光路式二 维位移量测方法,其中第一次绕射光载有和二维运 动位移量相关之相位偏移讯号。23.如申请专利范 围第15项所述之共轭光路式二维位移量测方法,其 中第二次绕射光载有和二维运动的两个线性独立 方向位移量相关之干涉讯号。24.如申请专利范围 第15项所述之共轭光路式二维位移量测方法,其中 第一次绕射光与第二次绕射光皆为第一阶的绕射 光。25.如申请专利范围第15项所述之共轭光路式 二维位移量测方法,其中波前重建光学组件,可为 角立方反射镜。26.如申请专利范围第15项所述之 共轭光路式二维位移量测方法,其中波前重建光学 组件,可由一平行化透镜和一平面反射镜组合而成 。27.如申请专利范围第15项所述之共轭光路式二 维位移量测方法,其中波前重建光学组件,可为背 面镀有反射层之渐折射率透镜。图式简单说明: 第1图系本发明之前段光路示意图。 第2图系本发明之后段光路示意图。 第3图系本发明替代实施例之前段光路示意图。 第4图系本发明替代实施例之后段光路示意图。 |
