发明名称 COLD CATHODE ION BEAM DEPOSITION APPARATUS WITH SEGREGATED GAS FLOW
摘要 <p>L'invention concerne une source d'ions à courant en circuit fermé à cathode froide avec séparation de courants gazeux. Le premier gaz peut être mis en circulation à travers ou le long du circuit situé autour d'une partie périphérique de l'anode, de façon à traverser l'espace électrique situé entre l'anode et la cathode. Un second gaz (différent du premier) peut être mis en circulation en direction de la fente d'émission d'ions, sans qu'une grande partie de ce second gaz ne doive traverser le ou les espaces électriques. Si l'on souhaite utiliser un gaz produisant une matière isolante (un gaz organosilicié, par exemple), ce gaz peut être utilisé comme second gaz. Par conséquent, cet appareil permet de réduire la formation de matière isolante dans l'espace électrique situé entre l'anode et la cathode et d'obtenir des changements dans la composition chimique du faisceau sans altérer indûment les caractéristiques du faisceau d'ions.</p>
申请公布号 WO2002019366(A2) 申请公布日期 2002.03.07
申请号 US2001026588 申请日期 2001.08.27
申请人 发明人
分类号 主分类号
代理机构 代理人
主权项
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