发明名称 METHOD FOR PRODUCING A DOPED SEMICONDUCTOR MATERIAL
摘要 <p>Um ein Substrat (1) aus GaN mit Magnesium aus einer Dotierschicht (3) zu dotieren, ist die Dotierschicht (3) mit einer Schutzschicht (4) abgedeckt, die verhindert, dass Stickstoff-Atome aus dem Substrat (1) ausdiffundieren. Diese Massnahme gewährleistet, dass sich der Typ der Leifähigkeit des Substrats (1) während des Dotiervorgangs nicht verändert.</p>
申请公布号 WO2002017370(A1) 申请公布日期 2002.02.28
申请号 DE2001003236 申请日期 2001.08.24
申请人 发明人
分类号 主分类号
代理机构 代理人
主权项
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