| 发明名称 | 高分子树脂膜及其制造方法 | ||
| 摘要 | 本发明公开了高分子树脂膜及其制造方法,是在利用溶液制膜法制造的光学用透明膜、照片感光材料用支持体膜等中,即使在膜表面涂布各种功能层,也不会产生涂布不均现象。这种高分子树脂膜是采用溶液制膜法制造的,其特征在于膜片纵向周期厚度不均间距a[cm]、厚度不均率d[%]满足下式(1):d≤0.46a<SUP>3</SUP>－0.91a<SUP>2</SUP>+0.60a+1.01 (1)(但0.2<a<3) | ||
| 申请公布号 | CN1334183A | 申请公布日期 | 2002.02.06 |
| 申请号 | CN01123602.7 | 申请日期 | 2001.07.25 |
| 申请人 | 富士胶片株式会社 | 发明人 | 片井幸祐;辻本忠宏;中村敏和 |
| 分类号 | B29C41/12;//B29L11:00 | 主分类号 | B29C41/12 |
| 代理机构 | 北京市专利事务所 | 代理人 | 关畅 |
| 主权项 | 1、一种高分子树脂膜，是采用溶液制膜法制造的，其特征在于膜片纵向周期厚度不均间距a[cm]、厚度不均率d[％]满足下式(1)，但0.2＜a＜3：d≤0.46a3－0.91a2＋0.60a＋1.01 (1) | ||
| 地址 | 日本神奈川县 | ||