| 发明名称 | 蚀刻溶液,蚀刻制品和制造蚀刻制品的方法 | ||
| 摘要 | 一种含氟化氢(HF)的蚀刻溶液,其蚀刻速率的比值为:硼玻璃膜(BSG)或硼磷玻璃膜(BPSG)的蚀刻速率/热氧化膜(THOX)的蚀刻速率在25℃为10或更大。 | ||
| 申请公布号 | CN1328696A | 申请公布日期 | 2001.12.26 |
| 申请号 | CN99813592.5 | 申请日期 | 1999.11.22 |
| 申请人 | 大金工业株式会社 | 发明人 | 毛塚健彦;陶山诚;板野充司 |
| 分类号 | H01L21/306;H01L21/308;C09K13/08 | 主分类号 | H01L21/306 |
| 代理机构 | 中原信达知识产权代理有限责任公司 | 代理人 | 王维玉;丁业平 |
| 主权项 | 1.含氢氟酸的蚀刻溶液，其中硅酸硼玻璃膜(BSG)或磷硅酸硼玻璃膜(BPSG)的蚀刻速率/热氧化物膜(THOX)的蚀刻速率的比值在25℃为10或更大。 | ||
| 地址 | 日本大阪府 | ||