| 主权项 |
1.一种快速热处理(RTP)反应室,包含有一反应室主体,及至少一块石英板,被固定在非常接近反应室主体的位置,至少有一部份的石英板对由一快速热处理系统的幅射光源而来之幅射光线是透明的,此石英板在反应室主体上形成一个气密的密封,此气密的密封由一可膨胀的组件所启动。2.根据申请专利范围第1项所述之反应室,其中,一密封组件被置于反应室主体及石英板之间,且当可膨胀的组件膨胀时,此可膨胀的组件将石英板及反应室主体相对地压在一起。3.根据申请专利范围第2项所述之反应室,其中,一无活性、抗高温的物质被置于可膨胀的组件及石英板之间。4.根据申请专利范围第3项所述之反应室,其中,此无活性、抗高温的物质为铁氟龙(TM)。5.根据申请专利范围第2项所述之反应室,其中,密封组件是一个铁氟龙(TM)之密封组件。6.根据申请专利范围第2项所述之反应室,其中,密封组件是一铜垫圈超高真空之密封组件。7.根据申请专利范围第2项所述之反应室,其中,密封组件是一金属涂覆的弹性聚合物之密封组件。8.根据申请专利范围第1项所述之反应室,其中,可膨胀的组件位于石英板及反应室主体之间。9.根据申请专利范围第1项所述之反应室,其中,此石英板是一有周围之圆形石英板,而此可膨胀的组件沿着石英板的周围设置。10.根据申请专利范围第1项所述之反应室,其中,此石英板是具有一个接近石英板周围之区域,可以散射幅射光线之石英板。11.一种快速热处理(RTP)系统,包含一幅射光源;一快速热处理反应室含一反应室主体,及至少一块石英板,被固定在非常接近反应室主体的位置,至少有一部份的石英板对由幅射光源而来的幅射光线是透明的,此石英板在反应室主体上形成一个气密的密封,此气密的密封是由一个可膨胀的组件所启动;一气体控制其意义为用于将一种气体导入至快速热处理反应室中,及一意义为控制用于加热包含于快速热处理反应室中的物体之幅射光线的光源,及一意义为控制用于当物体被加热时,将此物体包围在合适的气体中之气体控制。12.根据申请专利范围第11项所述之系统,其中,一密封组件置于反应室主体及石英板之间,且当可膨胀的组件膨胀时,此可膨胀的组件将石英板及反应室主体相对地压在一起。13.根据申请专利范围第11项所述之系统,其中,一无活性、抗高温的物质被置于可膨胀的组件及石英板之间。14.根据申请专利范围第13项所述之系统,其中,此无活性、抗高温的物质为铁氟龙(TM)。15.根据申请专利范围第12项所述之系统,其中,密封组件是一铁氟龙(TM)之密封组件。16.一种使用一快速热处理系统之快速热处理(RTP)物体之方法,其包含,将此物体置于快速热处理反应室中,此快速热处理反应室有一个反应室主体,及至少一块的石英板,被固定在非常接近反应室主体的位置,至少有一部份的石英板对于由一快速热处埋系统的幅射光源而来的幅射光线是透明的,此石英板在反应室主体上形成一个气密的密封,此气密的密封是由一可膨胀的组件所启动,及由幅射光源来之幅射光线加热此物体。17.根据申请专利范围第16项所述之方法,其中,一密封组件置于反应室主体及石英板之间,且当可膨胀的组件膨胀时,此可膨胀的组件将石英板及反应室主体相对地压在一起。18.根据申请专利范围第16项所述之方法,其中,一无活性、抗高温的物质置于可膨胀的组件及石英板之间。19.根据申请专利范围第18项所述之方法,其中,此无活性、抗高温的物质是铁氟龙(TM)。20.根据申请专利范围第17项所述之方法,其中,密封组件是一铁氟龙(TM)之密封组件。图式简单说明:第一图为先前技艺之一有两排加热灯、一端可开的石英反应室的快速热处理系统之概略图。第二图为本发明一最佳实施例的快速热处理系统反应室之概略图。第三图为本发明一较佳实施例的快速热处理系统反应室之概略图。第四图为第二图中A部份之放大概略图。第五图为第三图中一部份之放大概略图。第六图为本发明一较佳实施例之放大概略图。第七图为本发明一较佳实施例之放大概略图。第八图为本发明一较佳实施例之放大概略图。第九图为本发明一较佳实施例之放大概略图。 |
