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经营范围
发明名称
PROJECTION LITHOGRAPHY PHOTOMASK BLANKS, PREFORMS AND METHOD OF MAKING
摘要
申请公布号
KR20010111498(A)
申请公布日期
2001.12.19
申请号
KR1020017011702
申请日期
2001.09.14
申请人
发明人
分类号
H01L21/027
主分类号
H01L21/027
代理机构
代理人
主权项
地址
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