发明名称 NON-VOLATILE NOR TWO-TRANSISTOR SEMICONDUCTOR MEMORY CELL, A CORRESPONDING NOR SEMICONDUCTOR MEMORY DEVICE AND A METHOD FOR THE PRODUCTION THEREOF
摘要 <p>Die Erfindung betrifft eine nichtflüchtige NOR-Zweitransistor-Halbleiterspeicherzelle, eine dazugehörige Halbleiterspeichereinrichtung sowie ein Verfahren zu deren Herstellung, bei der Eintransistor-Speicherzellen (T1, T2) in einem ringförmig ausgebildeten aktiven Bereich (AA) liegen und über dazugehörige Wortleitungen (WL1, WL2) angesteuert werden. Die Sourcegebiete (S1, S2) der Eintransistor-Speicherzellen (T1, T2) werden hierbei über eine Sourceleitung (SL1) angeschlossen, während die Draingebiete (D1, D2) über entsprechende Drainleitungen (DL1) angeschlossen werden. Insbesondere aufgrund der ringförmigen Struktur der aktiven Bereiche (AA) erhält man einen verringerten Platzbedarf für die Zweitransistor-Halbleiterspeicherzelle.</p>
申请公布号 WO2001095337(A1) 申请公布日期 2001.12.13
申请号 DE2001002069 申请日期 2001.06.01
申请人 发明人
分类号 主分类号
代理机构 代理人
主权项
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