| 主权项 |
1.一种光学分析装置,其系用以检测一欲检测之检体,其包含:一基座,其包括吸收性材料;以及一构件,其包括一光学反应测试叠盘,该构件系可转动地结合至基座,以在一降下位置与一高超位置之间转动,其中在该降下位置处,该光学反应测试叠盘系与吸收性材料相接触,以经由该叠盘而将样本吸取出来,而在高起位置处,该光学反应测试叠盘系不会与吸收性材料相接触。2.根据申请专利范围第1项之光学分析装置,其中该构件系经由一凸轮机构而可转动地结合至基座。3.根据申请专利范围第2项之光学分析装置,其中该凸轮机构系包括至少一陡起部,藉此当该构件系由降下位置移动至高起位置时,该构件系可以向上移动至少一陡起部,且当该构件系由高起位置移动至降下位置时,该构件系可以向下移动至少一陡起部。4.根据申请专利范围第1项之光学分析装置,其进一步包括一固持机构,其系用以将构件固持至基座。5.根据申请专利范围第1项之光学分析装置,其进一步包括一挡止机构,其系用以限制该构件转动至降下位置、该高起位置以及在两位置之间转动。6.根据申请专利范围第1项之光学分析装置,其中该构件系包括一突伸部,其系用以藉由使用者之手指来加以操纵,以有助于该构件之转动。7.根据申请专利范围第1项之光学分析装置,其中该基座系包括一对手指握持部,以有助于握持该基座。8.根据申请专利范围第1项之光学分析装置,其中该光学反应测试叠盘系包括一光学功能层,其系由具有厚度介于1000及5000埃之间无晶形矽。9.根据申请专利范围第1项之光学分析装置,其进一步包括一支撑件,其系承载该光学反应测试叠盘,该支撑件系由以下之构件中选出:尼龙、蚀刻有轨迹之聚酯、硝化纤维素、以及多元硫化物。10.根据申请专利范围第1项之光学分析装置,其中该光学功能层系以一厚度介于400至700埃之间的抗反射层所覆盖。11.根据申请专利范围第10项之光学分析装置,其中该抗反射层系以一由金刚碳之连接层所覆盖,其中该连接层系具有介于50及1000埃之间的厚度。12.一种光学分析装置,其系用以检测一欲检测之检体,其包含:一基座,其包括吸收性材料;一构件,其包括一光学反应测试叠盘,该构件系可转动地结合至基座,以在一降下位置与一高起位置之间转动,其中在该降下位置处,该光学反应测试叠盘系与吸收性材料相接触,以经由该叠盘而将样本吸取出来,而在高起位置处,该光学反应测试叠盘系不会与吸收性材料相接触;以及一固持机构,其系用以将构件固定至基座。13.根据申请专利范围第12项之光学分析装置,其中该凸轮机构系包括至少一陡起部,藉此当该构件系由降下位置移动至高起位置时,该构件系可以向上移动至少一陡起部,且当该构件系由高起位置移动至降下位置时,该构件系可以向下移动至少一陡起部。14.根据申请专利范围第12项之光学分析装置,其进一步包括一挡止机构,其系用以限制该构件转动至降下位置、该高起位置以及在两位置之间转动。15.根据申请专利范围第12项之光学分析装置,其中该构件系包括一突伸部,其系用以藉由使用者之手指来加以操纵,以有助于该构件之转动。16.根据申请专利范围第12项之光学分析装置,其中该基座系包括一对手指握持部,以有助于握持该基座。17.一种光学分析装置,其系用以侦测欲加以检测之检体,其包含:一基座,其包括吸收性材料,该基座系大致位在一第一平面;一构件,其包括一米学反应测试叠盘,该构件系大致位在一第二平面,其系平行于第一平面,该构件系可活动式地与该基座相连接,以在一降下位置与一高起位置之间移动,其中在该降下位置处,该光学反应测试叠盘系与该吸收性材料相接触,且该构件系大致位在与该基座相同之平面上,以经由该叠盘将样本吸取出来,且在该高起位置处,该光学反应测试叠盘系不会与吸收性材料相接触,且该构件并非位在与该基座相同之平面上。18.根据申请专利范围第17项之光学分析装置,其中该构件系可以经由一凸轮机构而可转动地连接至基座。19.根据申请专利范围第18项之光学分析装置,其中凸轮机构系包括至少一陡起部,藉此当该构件系由降下位置移巧至高起位置时,该构件系可以向上移动至少一陡起部,且当该构件系由高起位置移动至降下位置时,该构件系可以向下移动至少一陡起部。20.根据申请专利范围第17项之光学分析装置,其进一步包括一固持机构,其系用以将构件固待至基座。21.根据申请专利范围第17项之光学分析装置,其进一步包括一挡止机构,其系用以限制该构件转动至降下位置、该高起位置以及在两位置之间转动。22.根据申请专利范围第17项之光学分析装置,其中该构件系包括一突伸部,其系用以藉由使用者之手指来加以操纵,以有助于该构件之转动。23.根据申请专利范围第17项之光学分析装置,其中该基座系包括一对手指握持部,以有助于握持该基座。24.一种用以检测一欲加以检测之检体的光学分析装置,其包含:一基座,其包括吸收性材料;一构件,其包括一中心轴,该构件包括一中央穿孔及一覆盖该穿孔之光学反应测试叠盘,该构件系经由一凸轮机构而可转动地结合至该基座,以绕着该中心轴而在一降下位置与一高起位置之间转动,其中在该降下位置处,该光学分析测试叠盘系与吸收性材料相接触,以将一样本经由该叠盘吸取出来,而在该高起位置处,该光学反应测试叠盘系不会与该吸收性材料相接触;一挡止机构,其系用以限制该构件转动至降下位置、高起位置以及在此两位置之间转动;以及一限制机构,其系用以将该构件固定至基座。25.根据申请专利范围第24项之光学分析装置,其中该凸轮机构系包括复数个陡起部由该基座延伸而出,以及复数个各别之陡起构件由上方构件延伸而出,其系用以在随着该构件之转动而与该陡起构件可滑动地配合,以上升及降下该大体上为圆形之构件。26.根据申请专利范围第23项之光学分析装置,其中该基座系包括一凹井,其系承载该吸收性材料。27.根据申请专利范围第24项之光学分析装置,其中该基座系包括一对手指握持部,以有助于握住该基座。28.根据申请专利范围第24项之光学分析装置,其中该构件系包括一突伸件,其系可以藉由一使用者之手指来加以操作,以有助于转动该构件。29.一种光学分析装置,其系用以检测一欲检测之检体,其包含:一基座,其包括吸收性材料;一构件,其包括一光学反应测试叠盘;以及用以将该构件在一降下位置与一高起位置之间移动之装置,其中在该降下位置处,该光学反应测试叠盘系会与该吸收性材料相接触,以经由该叠盘而将所施加之介质或样本吸取出来,其中在该高起位置处,该光学反应测试叠盘系不会与该吸收性材料相接触。30.根据申请专利范围第39项之光学分析装置,其进一步包括用以将构件固定至基座的装置。31.一种用以侦测存在于一测试样本中之待检测检体之存在或其量値之方法,其包含:提供一光学分析装置,该光学分析装置包含一基座,其包括吸收性材料,以及一构件,其包括一光学反应测试叠盘,该构件系可转动地结合至基座以在一降下位置与一高起位置之间移动,其中在该降下位置处,该光学反应测试叠盘系会与该吸收性材料相接触,而在该高起位置处,该光学反应测试叠盘系不会与该吸收性材料相接触;使该构件位在降下位置处,其中在该位置处,该光学反应测试叠盘系会与该吸收性材料相接触;施加测试样本至光学反应测试叠盘;施加一配合体至光学反应测试叠盘;施加一清洗剂至光学反应测试叠盘;转动该构件至高起位置,其中在该位置处,该光学反应测试叠盘系不会与该吸收性材料相接触;施加一放大试剂溶液至光学反应测试叠盘;转动该构件至降下位置,使得该放大试剂溶液可以由光学反应测试叠盘中被吸取出来;以及观察该光学反应测试叠盘,以由肉眼辨识欲检测之检体存在或其量値。32.一种用以侦测存在于一测试样本中之待检测检体之存在或其量値之方法,其包含:提供一光学分析装置,该光学分析装置包含一基座,其包括吸收性材料,以及一构件,其包括一光学反应测试叠盘,该构件系可转动地结合至基座以在一降下位置与一高起位置之间移动,其中在该降下位置处,该光学反应测试叠盘系会与该吸收性材料相接触,而在该高起位置处,该光学反应测试叠盘系不会与该吸收性材料相接触;使该构件位在高起位置处,其中在该位置处,该光学反应测试叠盘系不会与该吸收性材料相接触;施加测试样本至光学反应测试叠盘;转动该构件至降下位置,其中在该位豆处,该光学反应测试叠盘系与该吸收性材料相接触;施加一清洗剂至光学反应测试叠盘;转动该构件至高起位置,其中在该位置处,该光学反应测试叠盘系不会与该吸收性材料相接触;施加一放大试剂溶液至光学反应测试叠盘;转动该构件至降下位置,其中在该位置处,该光学反应测试叠盘系与该吸收性材料相接触;施加一清洗剂至光学反应测试叠盘;观察该光学反应测试叠盘,以由肉眼辨识欲检测之检体存在或其量値。33.根据申请专利范围第32项之方法,其进一步包括在施加该测试样本之后以及施加该放大试剂溶液之后,使该光学反应测试叠盘潜伏一段时间。图式简单说明:第一图系依照本发明之发明之较佳实施例所建构之光学分析装置之分解立体视图;第二图系第一图所示之光学分析装置之立体视图,且其中显示在降下位置之大体为圆形之构件;第三图系第一图所示之光学分析装置之立体视图,其中显示大体为圆形之构件位在高起之位置;第四图系第一图所示之光学分析装置之顶视平面图,且以虚线显示在高起位置之大体为圆形之构件,以及以切开线显示之该装置的底部表面;第五图系第一图所示之光学分析装置之立体分解视图;第六图系第四图之光学分析装置之截面视图,其系沿着第四图以虚线表示之剖面线6-6所取之大体为圆形之构件的剖视图;第七图系第四图之光学分析装置之截面视图,其系沿着第四图以虚线表示之剖面线7-7所取之大体为圆形之构件的剖视图;以及第八图系第四图之光学分析装置之截面视图,其系沿着第四图以虚线表示之剖面线8-8所取之大体为圆形之构件的剖视图。 |
