| 主权项 |
1.一种以乙烯基环己烷为底质之聚合物,其具有下式重复结构单位其中R3与R4互相独立表示氢或C1-C6烷基,或R3与R4共同表示次烷基,R1.R2及R5互相独立表示氢或C1-C6烷基,其具有对排组态,其特征在于二价基之量大于50.1%,低于74%。2.一种以乙烯基环己烷为底质之聚合物,其中可用于制造之共单体系选自以下族群中之至少一种单体,烯烃,丙烯酸或甲基丙烯酸之烷基酯类,环戊二烯,环己烯,环己二烯,视情况经取代之原冰片烯,二环戊二烯,二氢环戊二烯,视情况经取代之四环十二烯,核烷基化之苯乙烯,-甲基苯乙烯,二乙烯基苯,乙烯基酯类,乙烯基酸类,乙烯基醚类,醋酸乙烯酯,丙烯,甲基丙烯,顺丁烯二酐,其具有对排组态,其特征在于二价基之量大于50.1%,低于74%。3.根据申请专利范围第1项之聚合物,其中二价基之量为52至70%。4.根据申请专利范围第15项之聚合物,其系用于制备光学资料储存介质、模制物及薄膜。5.根据申请专利范围第2项之共聚物,其系用于制备光学资料储存介质、模制物及薄膜。 |
